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Apparatus for synthetic diamond deposition including spring-tensioned filaments 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/46
출원번호 US-0469986 (1990-01-25)
발명자 / 주소
  • Anthony Thomas R. (Schenectady NY) Engler Richard A. (Schenectady NY) Ettinger Robert H. (Schenectady NY) Fleischer James F. (Scotia NY) DeVries Robert C. (Burnt Hills NY)
출원인 / 주소
  • General Electric Company (Schenectady NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 22  인용 특허 : 2

초록

Diamond is deposited by chemical vapor deposition on two parallel substrates, by means of a plurality of filaments between said substrates. The substrates and filaments are in vertical configuration and the filaments are linear and spring-tensioned to compensate for thermal expansion and expansion c

대표청구항

Apparatus for deposition of diamond on substrates by chemical vapor deposition, comprising: a closed reaction chamber having at least one gas inlet and at least one exhaust means, said chamber being capable of being maintained at a pressure below atmospheric; support means for supporting said substr

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. Olson Jerry M. (Lakewood CO), Method and apparatus for producing high purity silicon.
  2. Winkler Otto (Balzers LIX), Vacuum-deposition apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (22)

  1. Lee, Eric M.; Faguet, Jacques; Strang, Eric J., Apparatus for chemical vapor deposition control.
  2. Kang, Hee-Cheol; Furuno, Kazuo; Kim, Han-Ki; Kim, Myoung-Soo, Catalyst enhanced chemical vapor deposition apparatus and deposition method using the same.
  3. Chou H. Li, Ceramic coating method.
  4. Li, Chou H., Chemical mechanical polishing.
  5. Li, Chou H.; Li, Suzanne C., Chemical mechanical polishing slurry.
  6. Chae,Ki Woong, Chemical vapor deposition process and apparatus thereof.
  7. Price Lewis, Hilton G.; White, Aleksandr J.; Stazinski, Michael E., Coated molds and related methods and components.
  8. Pryce Lewis, Hilton G.; White, Aleksandr J.; Stazinski, Michael E., Coated molds and related methods and components.
  9. Rueffer, Martin; Rosiwal, Stefan; Bareiss, Christian; Reichert, Walter; Lemmer, Oliver; Perle, Marc, Device and method for coating a substrate using CVD.
  10. Rueffer, Martin; Rosiwal, Stefan; Bareiss, Christian; Reichert, Walter; Lemmer, Oliver; Perle, Marc, Device and method for coating a substrate using CVD.
  11. Nakahara, Shinji; Imai, Masato; Mayusumi, Masanori; Inoue, Kazutoshi; Gima, Shintoshi, Epitaxial growth furnace.
  12. Tolt, Zhidan Li, Gas dispersion apparatus for use in a hot filament chemical vapor deposition chamber.
  13. Nasman, Ronald; Biel, Patrick J.; Faguet, Jacques, Gas heating device for a vapor deposition system.
  14. Li Chou H., Heat-resistant electronic systems and circuit boards.
  15. Li, Chou H., Heat-resistant electronic systems and circuit boards.
  16. Chou H. Li, Heat-resistant electronic systems and circuit boards with heat resistant reinforcement dispersed in liquid metal.
  17. Nasman, Ronald; Faguet, Jacques, High temperature gas heating device for a vapor deposition system.
  18. Chou H. Li ; Suzanne C. Li, Planarizing method.
  19. Herlinger James E. ; Studley David K. ; Zimmer Jerry W., Reactor having an array of heating filaments and a filament force regulator.
  20. Herlinger James E. ; Studley David K. ; Zimmer Jerry W., Reactor having an array of heating filaments and a filament force regulator.
  21. Xu, Wen-Qing; Eissler, Elgin E.; Liu, Chao; Tanner, Charles D.; Kraisinger, Charles J.; Aghajanian, Michael, Substrate including a diamond layer and a composite layer of diamond and silicon carbide, and, optionally, silicon.
  22. Faguet, Jacques; Lee, Eric M., Vapor deposition system.
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