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[미국특허] Mass flow controller 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G05D-007/00
출원번호 US-0366681 (1989-06-15)
우선권정보 JP-0152673 (1988-06-20)
발명자 / 주소
  • Ohmi Tadahiro (Sendai JPX) Mihara Hiroshi (Kyoto JPX) Satoh Kiyoshi (Mukoh JPX)
출원인 / 주소
  • Stec Inc. (Kyoto JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 17  인용 특허 : 5

초록 ▼

A mass flow controller including a valve assembly wherein a flow rate-controlling portion of the valve assembly is mirror finished and wherein the maximum flow rate through the flow rate-controlling portion during the time that the flow rate is not being controlled is set so as to be sufficiently la

대표청구항 ▼

In a method of controlling the supply of gases in the production of semiconductor elements to prevent the contamination of moisture with a mass flow controller having a mass flow meter and a gas-controlling portion with a valve assembly of an enlarged annular rimmed valve port of a mirror finish sur

이 특허에 인용된 특허 (5) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Vavra Randall J. (Orange CA) Doyle Michael (Tustin CA), Fluid flow stabilizing apparatus.
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  2. Doyle James H. (1247 W. Grove Ave. Orange CA 92665), Fluid mass flow controller.
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  3. Aine Harry E. (30600 Page Mill Rd. Los Altos CA 94022) Block Barry (30610 Page Mill Rd. Los Altos CA 94022), Miniature valve and method of making same.
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  4. Baumann Hans D. (35 Mirona Rd. Portsmouth NH 03801), Minute flow regulating valve.
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  5. Lush ; William, Self-cleaning precision metering valve.
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이 특허를 인용한 특허 (17) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Chinnock, Robert T.; Miller, Clifford; Meacham, Charles, Chemically inert flow controller with non-contaminating body.
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  2. Noyes, Douglas B.; Briley, Jr., Leslie L.; Glew, Alexander, Control valves.
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  3. Older, John; Farouk, Bakhtier; Jones, La'Shell; Kern, Jared; Scholl, Matthew, Flow control/shut-off valve assembly.
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  4. Ohmi, Tadahiro; Saito, Masahito; Hino, Shoichi; Shimazu, Tsuyoshi; Miura, Kazuyuki; Nishino, Kouji; Nagase, Masaaki; Sugita, Katsuyuki; Hirata, Kaoru; Dohi, Ryousuke; Hirose, Takashi; Shinohara, Tsutomu; Ikeda, Nobukazu; Imai, Tomokazu; Yoshida, Toshihide; Tanaka, Hisashi, Flow rate range variable type flow rate control apparatus.
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  5. Ohmi, Tadahiro; Saito, Masahito; Hino, Shoichi; Shimazu, Tsuyoshi; Miura, Kazuyuki; Nishino, Kouji; Nagase, Masaaki; Sugita, Katsuyuki; Hirata, Kaoru; Dohi, Ryousuke; Hirose, Takashi; Shinohara, Tsutomu; Ikeda, Nobukazu; Imai, Tomokazu; Yoshida, Toshihide; Tanaka, Hisashi, Flow rate range variable type flow rate control apparatus.
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  6. Otsuki, Hayashi; Miura, Yutaka, Gas processing apparatus, gas processing method and integrated valve unit for gas processing apparatus.
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  7. Vu, Kim Ngoc, High conductance valve for fluids and vapors.
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  8. Fukushima Yoshitomo,JPX ; Higuchi Hideaki,JPX ; Sato Kazuhisa,JPX, Integrated gas control device.
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  9. Hsiao-Che Wu TW, Mass flow controller.
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  10. Tanaka Makoto,JPX ; Sakaguchi Yasuo,JPX ; Tokuhisa Yasukazu,JPX, Mass flow controller and operating method thereof.
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  11. Ohmi Tadahiro,JPX ; Nishino Koji,JPX ; Ikeda Nobukazu,JPX ; Morimoto Akihiro,JPX ; Minami Yukio,JPX ; Kawada Koji,JPX ; Dohi Ryosuke,JPX ; Fukuda Hiroyuki,JPX, Pressure type flow rate control apparatus.
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  12. Finley,Kenneth W., Reactive load resonant drive circuit.
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  13. Somani, Bhushan, Real time diagnostics for flow controller systems and methods.
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  14. Horiuchi Toru,JPX, Self-diagnosis method for mass flow controller.
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  15. Moler, Jeffery; Dickey, Aaron, Smart material actuator capable of operating in three dimensions.
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  16. Moler, Jeffery; Dickey, Aaron, Smart material actuator with enclosed compensator.
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  17. Smith Richard A., System and method for sensing low levels of a particular gas in an atmosphere.
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