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Pyrometer 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01J-005/00
출원번호 US-0308432 (1989-02-08)
우선권정보 JP-0027299 (1988-02-08)
발명자 / 주소
  • Arima Jiro (Osaka JPX) Tsujimura Hiroji (Osaka JPX)
출원인 / 주소
  • Minolta Camera Kabushiki Kaisha (Osaka JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 21  인용 특허 : 8

초록

A pyrometer according to the present invention calculates a temperature of a target to be measured by means of light emitting device for emitting reference light having three wavelengths to the target, and light measuring portions for measuring the intensity of the reference light, the intensity of

대표청구항

Pyrometer comprising; (a) light emitting means for emitting reference light having at least three wavelengths to said target to be measured; (b) first light measuring means for measuring the intensity of the reference light emitted by said light emitting means with respect to said at least three wav

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Stein Alexander (Secaucus NJ), Apparatus for remote measurement of temperatures.
  2. Ganguly Biswa (Beavercreek OH) Goss Larry P. (Dayton OH) Roquemore William M. (Dayton OH) Trump Darryl D. (Dayton OH), Fiber optic pyrometry with large dynamic range.
  3. Fraden Jacob (Hamden CT), Infrared electronic thermometer and method for measuring temperature.
  4. Tagami Ichizo (Hachioji JPX), Method of and system for measuring temperature and spectral factor.
  5. Brisk Richard (Wayland MA) Kasindorf Barry (Framingham MA) Stein Alexander (Secaucus NJ), Pyrometer #2.
  6. Pointer John (Tadley GB2), Pyrometer apparatus.
  7. Berman Herbert L. (Los Altos Hills CA), Radiometric measurement of wafer temperatures during deposition.
  8. Bibby Geoffrey W. (Leatherhead GB2), Temperature measurement.

이 특허를 인용한 특허 (21)

  1. Ish-Shalom Yaron,ILX ; Baharav Yael, Active pyrometry with emissivity extrapolation and compensation.
  2. Rudolph Ralph G. (Center Valley PA), Apparatus and method for measuring temperature and/or emissivity of steel strip during a coating process.
  3. Taylor, II, Charles A.; Barlett, Darryl; Perry, Douglas; Clarke, Roy; Williams, Jason, Apparatus and method for real time measurement of substrate temperatures for use in semiconductor growth and wafer processing.
  4. Taylor, II, Charles A.; Barlett, Darryl; Perry, Douglas; Clarke, Roy; Williams, Jason, Apparatus and method for real time measurement of substrate temperatures for use in semiconductor growth and wafer processing.
  5. Goldberg, David A., Automated indexing for distributing event photography.
  6. Goldberg, David A., Automated indexing for distributing event photography.
  7. Kinugasa, Seiichiro; Kato, Atsushi; Ichida, Shunji, Fluorescent temperature sensor.
  8. Seitz, Peter, Imaging pyrometer.
  9. Salour, Michael M., Imaging temperature sensing system.
  10. Ludwig, Richard A.; Zabriskie, William L., Instrument visualization system.
  11. Vandenabeele Peter M. N. (Herent BEX) Maex Karen I. J. (Herent BEX), Method and device for measuring temperature radiation using a pyrometer wherein compensation lamps are used.
  12. Smith, Caine; Davies, Brynley; Weil, Daniel, Method and system of displaying, managing and selling images in an event photography environment.
  13. Champetier Robert J. ; Egozi David,ILX, Method for determining the temperature of a semi-transparent radiating body.
  14. Johnson Shane R. ; Tiedje J. Thomas,CAXITX V6T 1W1, Method for determining the temperature of semiconductor substrates from bandgap spectra.
  15. Smith, Caine; Davies, Brynley, Method of displaying, managing and selling images in an event photography environment.
  16. Feichtinger, Heinrich; Rohner, Gottfried; Jussel, Rudolf, Method of optically monitoring the progression of a physical and/or chemical process taking place on a surface of a body.
  17. Kayani Sohail, Methods of measuring currency limpness.
  18. Cabib Dario,ILX ; Buckwald Robert A.,ILX ; Adel Michael E.,ILX, Multipoint temperature monitoring apparatus for semiconductor wafers during processing.
  19. Goldberg, David A.; Goldberg, Martha B.; Goldberg, Miriam D.; Goldberg, Benjamin M., Obtaining person-specific images in a public venue.
  20. Markus Hauf DE, Optical radiation measurement apparatus.
  21. Felice Ralph A., Temperature determining device and process.
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