[특허]Magnetically enhanced RIE process and apparatus

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Magnetically enhanced RIE process and apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H01L-021/306 B44C-001/22 C03C-015/00 C03C-025/06
출원번호	US-0199945 (1988-05-27)
발명자 / 주소	Wolfe John C. (Houston TX) El-Masry Ahmed M. (Houston TX) Fong Fu-On (Houston TX)
출원인 / 주소	University of Houston-University Park (Houston TX 02)
인용정보	피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 9

초록

An etching process and apparatus employ a novel magnetic enhancement means and a substantially pure molecular bromine plasma in order to perform in a desired manner for a number of important applications requiring etching of single-crystal and polycrystalline silicon.

대표청구항 ▼

An etching process comprising the steps of: supplying power between an anode and a cathode; generating a molecular bromine plasma within a reaction chamber; placing silicon to be etched in the vicinity of said cathode; producing a discharge ring of a planar magnetron around the silicon; and etching

이 특허에 인용된 특허 (9)

Okano Haruo (Yokohama JPX) Horiike Yasuhiro (Tokyo JPX), Dry Etching method and device therefor.
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Nishizawa Junichi (Sendai JPX), Dry etching method.
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Kinoshita Haruhisa (Tokyo JPX), Dry process apparatus.
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Maydan Dan (Short Hills NJ), High capacity etching apparatus and method.
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Cheng David (San Jose CA) Maydan Dan (Los Altos Hills CA) Somekh Sasson (Los Altos Hills CA) Stalder Kenneth R. (Redwood City CA) Andrews Dana L. (Mountain View CA) Chang Mei (San Jose CA) White John, Magnetic field-enhanced plasma etch reactor.
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Class Walter H. (Yonkers NY) Hurwitt Steven D. (Park Ridge NJ) Hill Michael L. (New York NY) Hutt Marvin K. (Oakland NJ), Magnetically enhanced plasma process and apparatus.
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Matsunaga Daisuke (Yokohama JPX) Kato Yoshikazu (Mizusawa JPX), Method of producing semiconductor device using reactive ion etching.
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Class Walter H. (Yonkers NY) Hurwitt Steven D. (Park Ridge NJ) I Lin (Piermont NY), Shaped field magnetron electrode.
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Obinata Hisaharu (Hatano JPX), Sputter etching apparatus having a second electrically floating electrode and magnet means.
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이 특허를 인용한 특허 (14)

Houge, Erik Cho; Jessen, Scott; McIntosh, John Martin; Vartuli, Catherine; Stevie, Fred Anthony, Abnormal photoresist line/space profile detection through signal processing of metrology waveform.
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Doan,Kenny L.; Kim,Yunsang; Dahimene,Mahmoud; Liu,Jingbao; Pu,Bryan; Shan,Hongqing; Curry,Don, Apparatus for uniformly etching a dielectric layer.
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Hinchliffe Robert D., Beam source for production of radicals and metastables.
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Chistyakov, Roman, High-power pulsed magnetically enhanced plasma processing.
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James Harold Powers ; Carl Edmond Sullivan, Ink jet printheads and methods therefor.
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Wolfe John C. ; Pendharkar Sandeep V., Magnetically enhanced radio frequency reactive ion etching method and apparatus.
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Selwyn Gary S. ; Dalvie Manoj ; Guarnieri C. Richard ; McGill James J. ; Rubolff Gary W. ; Surendra Maheswaran, Method and apparatus for tuning field for plasma processing using corrected electrode.
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Tamarak Pandhumsoporn ; Kevin Yu ; Michael Feldbaum ; Michel Puech FR, Method of anisotropic etching of substrates.
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Yamaoka, Yoshikazu; Nakamura, Moritaka, Method of fabricating semiconductor device having low dielectric constant insulator film.
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Anthony J. Canale ; John E. Cronin, Multi-layer hard mask for deep trench silicon etch.
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Wellerdieck Klaus,CHX ; Wegmann Urs,CHX ; Hoefler Karl,CHX, Process and apparatus for sputter etching or sputter coating.
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Azuma Tsukasa,JPX, Resist developing method by magnetic field controlling, resist developing apparatus and method of fabricating semicondu.
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Azuma Tsukasa,JPX, Resist developing method by magnetic field controlling, resist developing apparatus and method of fabricating semiconductor device.
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Hayashi, Hisataka; Kasahara, Yusuke; Imamura, Tsubasa, Semiconductor device manufacturing method.
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[논문] MERIE 에서 wafer edge plasma damage 改善硏究

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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