[특허]Purification of hydrogen peroxide

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Purification of hydrogen peroxide 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C01B-015/01
출원번호	US-0553291 (1990-07-17)
발명자 / 주소	Kirksey Kirby (Newark DE)
출원인 / 주소	E. I. Du Pont de Nemours and Company (Wilmington DE 02)
인용정보	피인용 횟수 : 8 인용 특허 : 1

초록

A method is disclosed for the purification of hydrogen peroxide by using activated carbon which has been chemically modified by using ammonium carbonate, (NH4)2CO3, or by using ethylenediaminetetraacetic acid diammonium salt, (NH4)2EDTA, followed by distillation.

대표청구항 ▼

A process for the purification of hydrogen peroxide which includes the removal of impurities, comprising the steps of: (a) pretreating activated carbon by at least one hot washing of the same with ammonium carbonate; (b) contacting a quantity of hydrogen peroxide to be purified with the resultant washed activated carbon thereby effecting the absorbing of impurities present in the hydrogen peroxide; and (c) separating the contacted hydrogen peroxide and distilling the same. A process for the purification of hydrogen peroxide which includes the removal of impurities, comprising the steps of: (a) pretreating activated carbon by at least one hot washing of the same with ethylenediaminetetraacetic acid diammonium salt; (b) contacting a quantity of hydrogen peroxide to be purified with the resultant washed carbon thereby effecting the absorbing of impurities in the hydrogen peroxide; and (c) separating the contacted hydrogen peroxide and distilling the same.

이 특허에 인용된 특허 (1)

Dalton ; Jr. Augustine I. (Allentown PA) Greskovich Eugene J. (Allentown PA) Skinner Ronald W. (Allentown PA), Process for producing hydrogen peroxide.
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이 특허를 인용한 특허 (8)

Rusek John J. ; Triola Larry C., Combined cycle power generation using controlled hydrogen peroxide decomposition.
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Clark R. Scot ; Baird Stephen S. ; Hoffman Joe G., Manufacture of high precision electronic components with ultra-high purity liquids.
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Clark, R. Scot; Baird, Stephen S.; Hoffman, Joe G., Manufacture of high precision electronic components with ultra-high purity liquids.
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Schulz Peter (Wappingers Falls NY), Method for reducing metal contamination of silicon wafers during semiconductor manufacturing.
상세보기
Schulz Peter,DEX, Method for reducing metal contamination of silicon wafers during semiconductor manufacturing.
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Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot, On-site ammonia purification for semiconductor manufacture.
상세보기
Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot, Point-of-use ammonia purification for electronic component manufacture.
상세보기
Bianchi Ugo Piero,ITX ; Leone Umberto,ITX ; Lucci Mauro,ITX, Process for the industrial production of high purity hydrogen peroxide.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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