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[미국특허] Automated chemical milling controller 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G01N-027/00
  • G06F-015/46
출원번호 US-0693693 (1985-01-22)
발명자 / 주소
  • Balisky Todd A. (Tacoma WA)
출원인 / 주소
  • The Boeing Company (Seattle WA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 1  인용 특허 : 15

초록

To maintain the actual milling rate of a chemical milling solution within a predetermined range, an automated chemical milling controller periodically measures the actual milling rate within the milling tank, senses the actual temperature of the milling solution, and calculates the normalized millin

대표청구항

An automated system for monitoring and controlling the milling rate of a chemical milling solution during a milling operation, comprising: (a) a supply of wire of known composition and cross-section; (b) means for immersing a predetermined portion of the wire into the solution on the milling tank at

이 특허에 인용된 특허 (15) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Mayeaux Donald P. (Prairieville LA), Apparatus for producing calibration gases suitable for analytical instrumentation.
  2. Eckles William E. (Cleveland OH) Bishop Craig V. (Cleveland OH) Vaitekunas Peter T. (Cleveland OH), Automatic analyzer and control system for electroplating baths.
  3. Hamilton Alexander (Giffnock GB6) Nelson Colin (Barrhead GB6), Continuous diazotization process, wherein the rate of addition of inorganic nitrite is automatically controlled by polar.
  4. Stewart William S. (Bartlesville OK) Hottovy John D. (Bartlesville OK), Control of a vinyl acetate process.
  5. Morshedi Abdol M. (Houston TX) Cutler Charles R. (Houston TX) Fitzpatrick Thomas J. (Katy TX) Skrovanek Thomas A. (Houston TX), Dynamic process control.
  6. Ross Alexander (Ayr GB6), Etching depth monitor.
  7. Smith, Dexter E.; Steward, William S.; Funk, Gary L., Generation of a set point for process control.
  8. Niemi Antti J. (Kauniainen FIX) Jutila Pentti K. (Helsinki FIX), Method and apparatus for controlling the pH.
  9. Hijikata Kazuo (Hachioji JPX), Method and apparatus for determining the rate of enzyme reaction.
  10. Niemi Antti Johannes (Yrjo Liipolantie 5 Kauniainen SF), Method for controlling the pH and other concentration variables.
  11. Kanda Kunihiko (Yokohama JPX), Method for forming electrical connecting lines by monitoring the etch rate during wet etching.
  12. Oxford Keith E. (4010 Paducah Dr. San Diego CA 92117), Method of automatically monitoring and regenerating an etchant.
  13. Bussmann Egon (Munich DT) Flamme Bruno (Neuried DT) Vanhumbeeck Jacky (Brugge BE) Helder Johannes (Brugge BE) De Steur Hubert (Drongen BE), Process control system for the automatic analysis and regeneration of galvanic baths.
  14. Bussmann Egon (Munich DT) Pritzl Walter (Munich-Unterhaching DT), Process for the automatic checking and control of etching machines.
  15. Ishikawa Seiji (Kitakyushu JPX), Titration apparatus with control means.

이 특허를 인용한 특허 (1) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. Barbee Steven George ; Heinz Tony Frederick ; Hsiao Yiping ; Li Leping ; Ratzlaff Eugene Henry ; Wong Justin Wai-chow, Real time measurement of etch rate during a chemical etching process.

활용도 분석정보

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