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Polish containing micronized wax particles 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C09G-001/08
  • C08L-091/06
출원번호 US-0447280 (1989-12-07)
발명자 / 주소
  • Cifuentes Martin E. (Midland County MI) Greenleaf Suzanne M. (Midland County MI)
출원인 / 주소
  • Dow Corning Corporation (Midland MI 02)
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 8

초록

A polish formulation containing as components thereof at least one member selected from the group consisting of waxes, solvents, surfactants, thickening agents, abrasives, dyes, odorants, and other ingredients normally used in making polishes. The improvement resides in incorporating into the polish

대표청구항

In a water in oil polish emulsion containing as components thereof a wax, an abrasive and optionally at least one member selected from the group consisting of solvents, surfactants, thickening agents, detergent resistant additives, colorants, odorants and other ingredients normally used in making po

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Baker Timothy J. (Claremore OK) Woods John H. (Tulsa OK) Zerr Jeffrey R. (Irving TX), Additive composition for water-based inks.
  2. Grejsner Teddy (Taastrup DKX), Agent for surface treatment and cleaning of records and similar objects.
  3. Martin Eugene Ray (Onsted MI), Detergent resistant polish compositions.
  4. Petz Karl (Neusss DEX) Rieger Klaus (Gersthofen DEX) Steidl Dieter (Hofheim am Taunus DEX), Dulling agent on the basis of wax for varnishes, and process for the manufacture thereof.
  5. Liebowitz Marvin (Edison NJ) Brandli Eugene Howard (Somerset NJ), Polish.
  6. Kasprzak Kenneth A. (Saginaw MI), Polish formulations.
  7. Kuehnle Adolf (Hoechster DEX), Process for the production of micronized waxes.
  8. Hawkins Edwin Francis (Cockeysville MD), Water-wettable wax composition and process for producing the same.

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Burke Peter A. ; Flanagan Kenneth J. ; Mansur Abul, Cleaning and polishing composition.
  2. Schmeida, Michael; Sokol, Brian, Composition and method for cleaning, protecting and restoring vehicular surfaces.
  3. Gaultier Serge,FRX, Composition and method for removing a substance from a finished surface.
  4. Keleher,Jason; Woodland,Daniel; De Rege Thesauro,Francesco; Medsker,Robert; Aggio,Jason, Compositions and methods for CMP of low-k-dielectric materials.
  5. Ogawa Kazufumi,JPX, Finishing agent and method of using the same.
  6. Miller, Ryan, Flotation device repair composition and method.
  7. Udy Joseph D., Footware dressings incorporating fluorocarbons.
  8. Grantham, Robert N.; Weaver, III, Robert R., Method and composition for treating substrates.
  9. Hasinovic, Hida; Wu, Gefei, Nano gel wax.
  10. Kodate, Tadao, Plastic soft composition for polishing and for surface protective material application.
  11. Klayder Donna W. ; Lupyan David A., Silicone gel waxes and silicone gel protectants.
  12. Serobian, Ashot, Sprayable dry wash and wax composition and method of using same.
  13. Serobian,Ashot, Sprayable dry wash and wax composition comprising a silicone blend and acrylic-based polymer.
  14. Muller Michael Wolfgang,DEX ; Klingelhofer Paul,DEX ; Weiss Stefan,DEX, Stable aqueous polyolefin wax dispersions.
  15. Miller, III, Paul David; Dehn, Dennis L., Surface polishing applicator system and method.
  16. Ghodoussi, Vahid, Water based protectant containing UV absorbers.
  17. Ghodoussi, Vahid, Water based protectant containing a reaction product of two ionic surfactants.
  18. Lewis, Glenn H., Water wax emulsion cleaner and waxer.
  19. Wollner Mark R., Wax composition and method of use.
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