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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0562288 (1990-08-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 195 인용 특허 : 1 |
A polishing pad for semiconductor wafers, having a face shaped by a series of voids. The voids are substantially the same size, but the frequency of the voids increases with increasing radial distance to provide a constant, or nearly constant, surface contact rate to a workpiece such as a semiconduc
Apparatus to polish a workpiece, comprising: a polishing pad, rotatable about an axis and having a face perpendicular to and coaxial with said axis; said face, in use, to be urged against the workpiece to facilitate polishing of same; said face shaped by a plurality of like sized substantially circu
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