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Copper sulfate absorption mass to remove AsH3, PH3, B2H6, GeH 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-047/00
  • B01J-008/00
  • C01B-003/00
출원번호 US-0279851 (1988-12-05)
발명자 / 주소
  • Gkcek Cetin (Muhlheim DEX)
출원인 / 주소
  • Messer Griesheim GmbH (DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 5  인용 특허 : 7

초록

An absorption mass consists of an oxidic porous carrier substance saturated with CuSO4. The CuSO4 is in the form of a monohydrate or with CuSO4 free from water of crystallization.

대표청구항 ▼

A process to eliminate gases selected from the group consisting of AsH3, PH3, B2H6, GeH4 and SiH4 including the steps of forming an absorption mass by saturating a porous carrier in the form of silica gel or aluminum oxide with CuSO4 in the form of monohydrate or CuSO4 free from water of crystalliza

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Hiraki Akio (Hyogo JPX) Imura Takeshi (Osaka JPX) Kanmura Wako (Osaka JPX), Hydrogen-containing silicic substance, process for producing the same and use thereof.
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  2. Nishino Hiroshi (Suita JPX) Aibe Toshio (Kashima JPX), Method for removal of poisonous gases.
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  3. Suggitt Robert M. (Wappingers Falls NY), Process for producing synthesis gas free-from volatile metal hydrides.
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  4. Nowack G. P. (Bartlesville OK) Johnson M. M. (Bartlesville OK), Process for removal of arsenic from gases.
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  5. Johnson Marvin M. (Bartlesville OK) Nowack Gerhard P. (Bartlesville OK), Process for removal of arsine impurities from gases containing arsine and hydrogen sulfide.
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  6. Nishino Hiroshi (Suita JPX) Aibe Toshio (Kashima JPX), Process for removal of poisonous gases.
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  7. Svara Jrgen (Cologne DEX) Thmmler Ursus (Erftstadt DEX), Process for removing hydrogen phosphide from waste air.
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이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. Ishii Yasu (Kanagawa JPX) Akita Noboru (Kanagawa JPX), Cleaning method for exhaust gas containing ammonia and silane.
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  2. Kennedy, Joseph; Xie, Songyuan; Do, Kim; Mukhopadhyay, Sudip, Compositions, coatings and films for tri-layer patterning applications and methods of preparation thereof.
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  3. Rebecca Faller ; Mark Holst, In-situ air oxidation treatment of MOCVD process effluent.
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  4. Shimada Takashi (Hiratsuka JPX) Okumura Toshio (Hiratsuka JPX) Hatakeyama Toshiya (Hiratsuka JPX), Process for cleaning harmful gas.
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  5. Hardwick, Steven; McManus, James V., Process for sorption of hazardous waste products from exhaust gas streams.
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