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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0597112 (1990-10-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 175 인용 특허 : 26 |
A high speed process for forming a multi layered thin film structure in a vacuum wherein each film is less than about four microns thick and the total layers can reach upwards to 4,000 or more. The polymeric layers are formed of a cross linked component selected from the group consisting of polyfunc
A high-speed process for forming a multi layered article having a plurality of substantially delamination free, pin hole free and void free layers, comprising the following steps: (a) providing a vacuum chamber containing: i) a movable support, ii) at least one vapor outlet of a flash vaporizer moun
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