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Tough silicon carbide composite material containing fibrous boride 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C04B-035/58
출원번호 US-0261923 (1988-10-25)
우선권정보 JP-0274303 (1987-10-28); JP-0025923 (1988-02-05); JP-0179377 (1988-07-19)
발명자 / 주소
  • Tani Toshihiko (Aichi JPX) Wada Shigetaka (Mie JPX)
출원인 / 주소
  • Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho (Aichi JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 17  인용 특허 : 9

초록

A composite material comprises silicon carbide and a boride of at least one element of Groups IVa to VIa of the Periodic Table, at least a portion of the boride being in the form of fiber having an aspect ratio of 3 or above. The composite material has high toughness owing to the fibrous boride. The

대표청구항

A composite material of silicon carbide and boride of formula MxBy, wherein M denotes at least one element of Groups IVa to VIa of the Periodic Table and x and y are integers, dispersed in said silicon carbide, at least 10% of said boride being in fiber form having an aspect ratio of 3 or above, and

이 특허에 인용된 특허 (9)

  1. Kosugi Tetsuo (Toukai JPX), Ceramic structure having thermal shock resistance.
  2. Ray Siba P. (Pittsburgh PA), Densified composite containing one or more interwoven matrix compositions.
  3. Murata Yorihiro (North Tonawanda NY) Coppola John A. (Lewiston NY) McMurtry Carl H. (Youngstown NY), High density thermal shock resistant sintered silicon carbide.
  4. Endo Morinobu (Nagano JPX) Takamizawa Minoru (Minoru Takamizawa JPX) Hongu Tatsuhiko (Kanagawa JPX) Hayashida Akira (Niigata JPX) Urasato Nobuaki (Niigata JPX) Ohsaki Hiromi (Niigata JPX), Method for the preparation of a sintered body of silicon carbide.
  5. Hailey Laurence N. (Niagara Falls NY), Method of producing composite ceramic articles.
  6. Hara Hisao (Kumagaya JPX) Yamada Hirohide (Kumagaya JPX), Process for producing non-oxide powders.
  7. Gesing Adam J. (Kingston CAX) Stratford Graham (Kingston CAX), Shaped refractory metal boride articles and method of making them.
  8. Saito Akira (Kokubu JPX), Silicon carbide sintered body and a manufacturing method therefor.
  9. Endo Hidehiro (Kawasaki JPX) Tanemoto Kei (Kawasaki JPX) Kubo Hiroshi (Kawasaki JPX), Sintered non-oxide ceramic composite.

이 특허를 인용한 특허 (17)

  1. Yu,Yongsik; Gupta,Atul; Billington,Karen; Carris,Michael; Crew,William; Mountsier,Thomas W., Boron-doped SIC copper diffusion barrier films.
  2. Varadarajan, Bhadri N.; Gong, Bo; Yuan, Guangbi; Gui, Zhe; Lai, Fengyuan, Densification of silicon carbide film using remote plasma treatment.
  3. Yu, Yongsik; Subramonium, Pramod; Fang, Zhiyuan; Henri, Jon; Apen, Elizabeth; Vitkavage, Dan, Diffusion barrier and etch stop films.
  4. Rangarajan, Vishwanathan; Antonelli, George Andrew; Banerji, Ananda; Van Schravendijk, Bart, Hardmask materials.
  5. Rangarajan, Vishwanathan; Antonelli, George Andrew; Banerji, Ananda; van Schravendijk, Bart, Hardmask materials.
  6. Yu, Yongsik; Billington, Karen; Tang, Xingyuan; Fu, Haiying; Carris, Michael; Crew, William, Low-K SiC copper diffusion barrier films.
  7. Yu, Yongsik; Billington, Karen; Tang, Xingyuan; Fu, Haiying; Carris, Michael; Crew, William, Low-k SiC copper diffusion barrier films.
  8. Yu, Yongsik; Gupta, Atul; Billington, Karen; Carris, Michael; Crew, William; Mountsier, Thomas W., Low-k b-doped SiC copper diffusion barrier films.
  9. Kesavan Sunil ; Burmester Gerhard,DEX, Metal titanates for friction stabilization of friction materials.
  10. Varadarajan, Bhadri N., Method to obtain SiC class of films of desired composition and film properties.
  11. Chattopadhyay, Kaushik; Fox, Keith; Mountsier, Tom; Wu, Hui-Jung; van Schravendijk, Bart; Branshaw, Kimberly, Methods for reducing UV and dielectric diffusion barrier interaction.
  12. Antonelli, George Andrew; Hollister, Alice; Reddy, Sirish, Oxygen-containing ceramic hard masks and associated wet-cleans.
  13. Martin, Curtis A.; Zaykoski, James A.; Talmy, Inna G., Pressureless sintering-based method for making a two-phase ceramic composite body.
  14. Wu, Hui-Jung; Shafi, Kimberly; Chattopadhyay, Kaushik; Fox, Keith; Mountsier, Tom; Dixit, Girish; van Schravendijk, Bart; Apen, Elizabeth, Reducing UV and dielectric diffusion barrier interaction through the modulation of optical properties.
  15. Varadarajan, Bhadri, Remote plasma based deposition of SiOC class of films.
  16. Ishimine, Yuusaku; Takigawa, Kazuaki, Sliding member, manufacturing method thereof, mechanical seal ring using sliding member and mechanical seal using mechanical seal ring.
  17. Yu, Yongsik; van Schravendijk, Bart J.; Shankar, Nagraj; Varadarajan, Bhadri N., Staircase encapsulation in 3D NAND fabrication.
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