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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0475471 (1990-02-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 68 인용 특허 : 0 |
An apparatus and method for controlling the powder deposition and deposit pattern in a plasma spray process are provided in which an infrared imaging detector and associated processors are employed to provide an image of the temperature distribution of the deposit and to provide an identification of
Apparatus for controlling a powder deposit pattern in a plasma spray process comprising: means for generating a plasma plume; means for injecting a powder comprising a plurality of particles into said plasma plume, said powder being entrained in a carrier gas; target means having a deposit surface f
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