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Hard-surface cleaning compositions containing iminodiacetic acid derivatives 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C11D-007/32
  • C11D-007/22
  • C11D-007/26
  • C11D-007/00
출원번호 US-0269850 (1988-11-09)
우선권정보 GB-0026673 (1987-11-13)
발명자 / 주소
  • Culshaw Stephen (Le Pecq FRX) Vos Eddy (Linden BEX) Hardy Frederick E. (Ponteland GB2)
출원인 / 주소
  • The Procter & Gamble Company (Cincinnati OH 02)
인용정보 피인용 횟수 : 30  인용 특허 : 0

초록

Hard-surface cleaning compositions are disclosed, containing an organic solvent having a boiling point above 90°C., and a chelating agent derived from iminodiacetic acid.

대표청구항 ▼

A hard-surface cleaning composition containing an organic solvent having a boiling point above 90°C. and a chelating agent of the formula: [Figure] wherein R is selected from the group of CH2CH2CH2OH; CH2CH(OH)CH3; CH2CH(OH)CH2OH; CH(CH2OH)2; [Figure] CH2CH2CH2OCH3; C(CH2OH)3 and M is hydrogen or an

이 특허를 인용한 특허 (30)

  1. Skold Rolf,SEX ; Karlsson Gunvor,SEX ; Hammarstrand Karin,SEX, Alkaline detergent having high contents of nonionic surfactant and complexing agent, and use of an amphoteric compound as solubilizer.
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  2. Greene,Sharon Linda; Huang,Yanbin; Huang,Lei; Weart,Ilona F.; Yang,Shu Ping; Malik,Sohail; Johnson,Robert B., Anti-microbial composition and methods of use thereof.
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  3. Wojtczak, William A.; Seijo, Ma. Fatima; Bernhard, David; Nguyen, Long, Aqueous cleaning composition containing copper-specific corrosion inhibitor for cleaning inorganic residues on semiconductor substrate.
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  4. Wojtczak, William A.; Seijo, Ma. Fatima; Bernhard, David; Nguyen, Long, Aqueous cleaning composition containing copper-specific corrosion inhibitor for cleaning inorganic residues on semiconductor substrate.
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  5. Wojtczak, William A.; Seijo, Ma. Fatimo; Bernhard, David; Nguyen, Long, Aqueous cleaning composition containing copper-specific corrosion inhibitor for cleaning inorganic residues on semiconductor substrate.
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  6. Wojtczak, William A.; Seijo, Ma. Fatima; Bernhard, David; Nguyen, Long, Aqueous cleaning composition containing copper-specific corrosion inhibitor for cleaning inorganic residues on semiconductor substrates.
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  7. Daly, Thomas, Biological buffers with wide buffering ranges.
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  8. Daly, Thomas, Biological buffers with wide buffering ranges.
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  9. Daly, Thomas, Biological buffers with wide buffering ranges.
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  10. Daly, Thomas, Biological buffers with wide buffering ranges.
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  11. Daly, Thomas, Biological buffers with wide buffering ranges.
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  12. Daly, Thomas, Biological buffers with wide buffering ranges.
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  13. Daly, Thomas P., Biological buffers with wide buffering ranges.
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  14. Daly, Thomas P., Biological buffers with wide buffering ranges.
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  15. Siklosi Michael P. (Cincinnati OH), Dry cleaning and spot removal proces.
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  16. Davis Maxwell Gregory, Dry cleaning process and kit.
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  17. Young Terrill A. (Cincinnati OH) Bavely Jane L. (Cincinnati OH) Roetker Timothy C. (Fairfield OH) Davis Maxwell G. (Forest Park OH), Dry cleaning process with hydroentangled carrier substrate.
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  18. Trinh Toan ; Siklosi Michael Peter, Dry cleaning with enzymes.
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  19. Jans Josef,CHX, Floor treating composition comprising a glycine N,N-diacetic acid.
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  20. Navarro, Raul; Jones, Andrew G. K.; Luyster, Mark; Horton, Robert L., Gravel-packing carrier fluid with internal breaker.
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  21. Phillip S. Athey ; David A. Wilson, Intermediates for the preparation of N-[2-(carboxymethoxy) ethyl]-N-(carboxymethyl) glycine.
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  22. Athey Phillip S. ; Wilson David A., Intermediates for the preparation of N-[2-(carboxymethoxy)ethyl]-N-(carboxymethyl)glycine.
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  23. Fujino Tetsuya,JPX ; Goto Yumi,JPX ; Fukugaki Takenori,JPX ; Nakamura Yoshiaki,JPX ; Murakami Yuji,JPX, Laundry detergent composition comprising a combination of a sparingly water soluble solvent and an easily water soluble.
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  24. Gaul Kimberley A. (St. Paul MN), Method for removing wallpaper.
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  25. Swidler Ronald (Palo Alto CA) Woodhall Edward W. (Los Altos CA), Method of abarding using surface abrasion compositions.
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  26. Roetker Timothy C. (Fairfield OH), Perfumable dry cleaning and spot removal process.
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  27. Roetker Timothy C. (Fairfield OH), Polyacrylate emulsified water/solvent fabric cleaning compositions and methods of using same.
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  28. Athey, Phillip S.; Wilson, David A., Preparation of N-[2-(carboxymethoxy) ethyl]-N-(carboxymethyl) glycine.
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  29. Pucci Maurizio,ITX ; Rapisarda Dario,ITX ; Orlandini Laura,ITX, Self-thickened cleaning compositions.
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  30. Siklosi Michael Peter (Cincinnati OH) DesMarais Thomas Allen (Cincinnati OH), Spherical or polyhedral dry cleaning articles.
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