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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0627989 (1990-12-17) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 57 인용 특허 : 0 |
The invention relates to a low temperature, dual beam vacuum deposition process for forming a hard, stress reduced, ballistically alloyed film such as diamond onto a substrate.
A process for forming a film adhered to a substrate in an evacuated atmosphere comprising: a) cleaning the surface of the substrate with a first energy beam of inert atoms having an energy level in the range from about 100 eV to 2000 eV, b) after said cleaning, sputtering a desired non-hydrocarbon s
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