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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0650193 (1991-02-04) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 0 |
A chemical bath for immersing articles such as integrated circuit wafers in a hot flow of etchant or other liquid includes a liquid receptacle with a first compartment for receiving the articles and a second compartment which acts as sump and further includes a trough which channels overflow from th
A recirculating chemical bath for immersing articles in a flow of hot liquid chemical comprising: a casing having a chamber therein and having a rim which extends around the perimeter of said chamber at the upper end thereof, a liquid chemical receptacle having a lower region situated within said ch
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