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특허 상세정보

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Sulfuric acid reprocessor with continuous purge of second distillation vessel

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) B01D-003/10    C01B-017/90   
미국특허분류(USC) 202/154 ; 202/159 ; 202/177 ; 202/183
출원번호 US-0481708 (1990-02-15)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
인용정보 피인용 횟수 : 9  인용 특허 : 0
초록
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An apparatus and method for reprocessing waste piranha containing contaminated H2SO4 from, for example, a semiconductor processing operation is described. The apparatus and method include a first distillation flask which is maintained under a substantial vacuum. The first distillation flask includes a first column packed with a column packing material and an input pipe for refluxing to retard loss of H2SO4 in the first distillation. The second distillation flask boils off substantially pure H2SO4 and provides for a continuous automatic purge of the conta...

대표
청구항
▼

An acid reprocessor for reprocessing waste piranha containing contaminated sulfuric acid (H2SO4) from a semiconductor processing operation, said acid reprocessor comprising: an input flask means for receiving said waste piranha containing contaminated H2SO4, light boiling contaminants, water and particulates, said input flask means including a first heating means for heating said waste piranha, said input flask means having an output for outputting said waste piranha; a first distillation means having an input coupled to said output of said input flask m...

이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 9

  1. Osuda, Hiroshi; Matoba, Toru; Adachi, Daisuke; Fukuizumi, Masataka. Apparatus and method for distilling waste liquids. USP2003016508915.
  2. Osuda,Hiroshi; Matoba,Toru; Adachi,Daisuke; Fukuizumi,Masataka. Apparatus and method for distilling waste liquids. USP2007067232504.
  3. Frans Vansant BE; Jozef de Hert BE; Dieter Koffer DE; Gerhard Theis DE; Winfried Terjung DE. Cleaning apparatus for removing residues. USP2002096443170.
  4. Clark R. Scot ; Baird Stephen S. ; Hoffman Joe G.. Manufacture of high precision electronic components with ultra-high purity liquids. USP199909RE36290.
  5. Clark, R. Scot; Baird, Stephen S.; Hoffman, Joe G.. Manufacture of high precision electronic components with ultra-high purity liquids. USP200302RE37972.
  6. Littleford, Wayne S.; Jolly, Sanjeev; Nolan, Dan; Verdouw, Andrew. Multi-pollutant abatement device and method. USP2017079694317.
  7. Grant Donald C. (Excelsior MN). Point-of-use recycling of wafer cleaning substances. USP1997055632866.
  8. Chenevert Paul J. (Austin TX) Stone Peter (Austin TX). Sulfuric acid preparation assembly. USP1997065639427.
  9. Kiyohito Koizumi JP; Hiroshi Osuda JP; Toru Matoba JP; Masataka Fukuizumi JP; Takayuki Sadakata JP. System and method for continuously reprocessing waste sulfuric acid liquid, and heater supporting structure for heating a vessel made of glass. USP2002116477323.

IPC 상위 출원인