최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0534810 (1990-06-05) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 163 인용 특허 : 0 |
A method is disclosed for cleaning microelectronics surfaces using an aerosol of at least substantially solid argon particles which impinge upon the surface to be cleaned and then evaporate and the resulting gas is removed by venting along with the contaminants dislodged by the cleaning method.
A method for removing contaminating particles and/or films from a particle and/or film-containing surface using an impinging stream of an at least substantially solid argon particle-containing aerosol, comprising: expanding a pressurized gaseous argon-containing stream, which is at a temperature abo
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.