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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0007747 (1987-01-28) |
우선권정보 | JP-0019566 (1986-01-31); JP-0019567 (1986-01-31); JP-0019568 (1986-01-31); JP-0019569 (1986-01-31); JP-0019570 (1986-01-31) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 30 인용 특허 : 0 |
A carbon film producing method utilizing a reactive sputtering process for projecting carbon particles from a graphite target electrode to deposite a very thin layer on a substrate. The reactive sputtering process is performed at a predetermined pressure in an atmosphere of hydrogen gas mixed at a p
A method of producing a carbon film on a substrate, comprising the steps of: placing the substrate in a vacuum chamber having a graphite target electrode placed therein; evacuating the vacuum chamber to a predetermined pressure; introducing a gaseous mixture into the vacuum chamber to produce a gase
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