[특허]Positive working dry film element having a layer of resist composition

Positive working dry film element having a layer of resist composition 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G03C-001/76
출원번호	US-0507337 (1990-04-10)
발명자 / 주소	Bauer Richard D. (Kennett Square PA) Chen Gwendyline Y. (Wilmington DE) Hertler Walter R. (Kennett Square PA) Wheland Robert C. (Wilmington DE)
출원인 / 주소	E. I. Du Pont de Nemours and Company (Wilmington DE 02)
인용정보	피인용 횟수 : 30 인용 특허 : 0

초록

This invention relates to positive working resist compositions having utility in dry film photoresists and to fully aqueous methods for developing and stripping them.

대표청구항 ▼

A dry film photoresist element comprising a thin flexible polymeric film support having adhered thereto with low to moderate adherence a solid photosensitive layer having a thickness of about 8 microns or greater, said layer comprising the following composition: (a) a polymer chosen from the group consisting of compositions having a polymer backbone and pendant acid-labile groups which are bound directly or indirectly to the polymer backbone, said pendant acidlabile groups represented by the formula: [Figure] or [Figure] where R1 is hydrogen or lower alkyl; R2 is lower alkyl; and R3 and R4 independently are hydrogen or lower alkyl where the definition of lower alkyl includes the joining of R1 and R2 or R1 and either R3 or R4, or R2 and either R3 or R4 to form a 5-, 6-, or 7-membered ring; (b) an initiator system comprising an initiator or an initiator and at least one sensitizer that generates, upon exposure to actinic radiation having a wavelength between about 3000Åand about 9000Å, a catalytic amount of a strong acid.

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