[특허]Laser vapor deposition apparatus

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[미국특허] Laser vapor deposition apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-014/24 C23C-014/28
출원번호	US-0519832 (1990-05-07)
우선권정보	JP-0131807 (1989-05-24)
발명자 / 주소	Oka Kazuhiro (Amagasaki JPX) Morita Takeshi (Amagasaki JPX) Hiramoto Seigo (Amagasaki JPX) Kagawa Toshio (Amagasaki JPX)
출원인 / 주소	Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha (Tokyo JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 0

초록 ▼

A laser vapor deposition apparatus includes a vacuum chamber which includes an exhaust port and in which a material to be vaporized and a substrate are enclosed, a laser beam source for irradiating the material to be vaporized with a laser beam so as to deposit from the material a desired compound onto the substrate, and a gas supply source which supplies to the surface of the material, a gas that can prevent changes in property of the material which could be caused by the laser beam irradiation.

대표청구항 ▼

A laser vapor deposition apparatus comprising: a vacuum chamber, having an exhaust port, for enclosing therein a material to be vaporized and a substrate; a laser beam source for irradiating said material with a laser beam to thereby vaporize said material, so that a desired film is deposited on said substrate; a gas supply source for supplying, in the vicinity of the surface of said material, a gas which can prevent changes in properties of said material which could be caused by the irradiation with said laser beam; means for withdrawing said gas from said vacuum chamber substantially without permitting said gas to contact said substrate, whereby said substrate remains unaffected by said gas.

이 특허를 인용한 특허 (12) 인용/피인용 타임라인 분석

Bi, Xiangxin; Mosso, Ronald J.; Chiruvolu, Shivkumar; Kumar, Sujeet; Gardner, James T.; Lim, Seung M.; McGovern, William E., Apparatus for coating formation by light reactive deposition.
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Bi, Xiangxin; Mosso, Ronald J.; Chiruvolu, Shivkumar; Kumar, Sujeet; Gardner, James T.; Lim, Seung M.; McGovern, William E., Coating formation by reactive deposition.
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Millan, Luis Carlos Estepa; Leis, German Francisco Fuente, Continuous furnace with coupled laser for the surface treatment of materials.
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Chiruvolu,Shivkumar; Chapin,Michael Edward, Dense coating formation by reactive deposition.
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Yamamoto,Hitoshi, Evaporation method using infrared guiding heater.
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Bi, Xiangxin; Lopez, Herman A.; Narasimha, Prasad; Euvrard, Eric; Mosso, Ronald J., High rate deposition for the formation of high quality optical coatings.
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Mashburn Douglas N., Individually controlled environments for pulsed addition and crystallization.
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Beesley Dwayne, Laser and laser-assisted free electron beam deposition apparatus and method.
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Toshiaki Kunieda JP; Toshibumi Kamiyama JP; Sadayuki Okazaki JP, Method and apparatus for forming thin functional film.
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Hunter, Aaron Muir; Behdjat, Mehran; Adams, Bruce E., Particle control in laser processing systems.
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Horne, Craig R.; McGovern, William E.; Lynch, Robert B.; Mosso, Ronald J., Reactive deposition for electrochemical cell production.
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Rosenberger, Brian T.; Carra, William M., System and method for the holographic deposition of material.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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