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Vacuum processing apparatus and transportation system thereof 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B05C-003/09
  • B60L-013/04
  • B60L-013/10
출원번호 US-0365677 (1989-06-13)
우선권정보 JP-0143685 (1988-06-13); JP-0143686 (1988-06-13)
발명자 / 주소
  • Katagiri Yoshitaka (Yokohama JPX)
출원인 / 주소
  • Asahi Glass Company Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 42  인용 특허 : 0

초록

A vacuum processing apparatus comprises a carrying body for holding a glass plate thereon, a pair of elongated stationary members extended in a vacuum chamber in which processing stages for forming films on the glass plate by a vapor deposition method are provided, a linear motor transportation devi

대표청구항

A transportation system for a vacuum processing apparatus which comprises a supporting means for supporting a material to be processed and a transportation means for transporting said supporting means in a vacuum processing apparatus wherein said transportation means comprises a magnetically floatin

이 특허를 인용한 특허 (42)

  1. Evers,Marinus F. J.; Bri��r,Peter; Clijsen,Leonardus P M, Assembly for processing substrates.
  2. Mott, Lawrence; Bettger, Kenneth; Brown, Elliot, Asymmetrical flexible edge seal for vacuum insulating glass.
  3. Beer, Emanuel; White, John M., Automated substrate processing system.
  4. Tepman Avi, Consecutive deposition system.
  5. Maass Jurgen,DEX ; Wagensommer Bernhard,DEX ; Kruger Michael,DEX ; Bauer Jorg,JPX, Device and method for transporting sheets singly separated from a sheet pile.
  6. Nagashima, Makoto, Dual hexagonal shaped plasma source.
  7. Bettger, Kenneth J.; Stark, David H., Filament-strung stand-off elements for maintaining pane separation in vacuum insulating glazing units.
  8. Bettger, Kenneth J.; Stark, David H., Flexible edge seal for vacuum insulating glazing units.
  9. Rigali, Louis A.; Hoffman, David E.; Wang, Keda; Smith, III, William F., High throughput plasma treatment system.
  10. Rigali,Louis A.; Hoffman,David E.; Wang,Keda; Smith, III,William F., High throughput plasma treatment system.
  11. Tyler, James Scott, High-speed symmetrical plasma treatment system.
  12. Kannan Chak D. ; Weber Adam Jerome, Hot plate oven for processing flat panel displays and large wafers.
  13. Kurita Shinichi ; White John M., In-situ substrate transfer shuttle.
  14. Gortz, Ole; Lykkegaard, Uffe; Larsen, Benny; Kloster, Aksel; Glud, Knud Erik; Simonsen, Henrik Duch, Inductive energy transfer system.
  15. Stark, David H, Insulated glazing units.
  16. Stark, David H., Insulating glass unit having multi-height internal standoffs and visible decoration.
  17. Chitayat Anwar, Linear motor with improved cooling.
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  19. Chen, Jinliang; Nippa, Kinya, Magnetic particle trapper for a disk sputtering system.
  20. Condrashoff, Robert S.; Fazio, James P.; Hoffman, David E.; Tyler, James S., Material handling system and method for a multi-workpiece plasma treatment system.
  21. Condrashoff, Robert Sergel; Fazio, James Patrick; Hoffman, David Eugene; Tyler, James Scott, Material handling system and methods for a multichamber plasma treatment system.
  22. Francis, IV, William H.; Freebury, Gregg E.; Beidleman, Neal J.; Hulse, Michael, Method and apparatus for an insulating glazing unit and compliant seal for an insulating glazing unit.
  23. White John M. ; Blonigan Wendell T. ; Tiner Robin L. ; Kurita Shinichi, Method and apparatus for substrate transfer and processing.
  24. Koren, Zion; Ma, Yorkman; Tomas Cardema, Rudy Santo; Taoka, James Tsuneo; Wride, Lois; McFarland, Craig; Gibson, Shawn, Method and system for rotating a semiconductor wafer in processing chambers.
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  26. Miller, Seth A.; Stark, David H.; Francis, IV, William H.; Puligandla, Viswanadham; Boulos, Edward N.; Pernicka, John, Multi-pane glass unit having seal with adhesive and hermetic coating layer.
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  28. Hofmeister, Christopher; Caveney, Robert T., Substrate processing apparatus.
  29. Hofmeister, Christopher; Caveney, Robert T., Substrate processing apparatus.
  30. Hofmeister, Christopher; Caveney, Robert T., Substrate processing apparatus.
  31. Hofmeister, Christopher; Caveney, Robert T., Substrate processing apparatus.
  32. Hofmeister, Christopher; Caveney, Robert T., Substrate processing apparatus.
  33. Hofmeister, Christopher; Caveney, Robert T., Substrate processing apparatus.
  34. Hosek, Martin; Hofmeister, Christopher; Krupyshev, Alexander, Substrate processing apparatus.
  35. White, John M.; Turner, Norman L.; Tiner, Robin L.; Keller, Ernst; Kurita, Shinichi; Blonigan, Wendell T.; Berkstresser, David E., Substrate transfer shuttle.
  36. White, John M.; Turner, Norman L.; Tiner, Robin L.; Keller, Ernst; Kurita, Shinichi; Blonigan, Wendell T.; Berkstresser, David E., Substrate transfer shuttle.
  37. Blonigan Wendell T. ; White John M., Substrate transfer shuttle having a magnetic drive.
  38. Blonigan, Wendell T.; White, John M., Substrate transfer shuttle having a magnetic drive.
  39. Wendell T. Blonigan ; John M. White, Substrate transfer shuttle having a magnetic drive.
  40. Hinterseer, Heinz; Weibhauser, Martin; Knoll, Peter, Thermoforming plant, transport system and thermoformed product produced therewith.
  41. Hofrichter, Johann, Transfer apparatus with dynamically variable drive zones.
  42. Stark, David H., Wafer-level hermetic micro-device packages.
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