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Resistant resin compositions 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C08K-005/34
출원번호 US-0542422 (1990-06-22)
우선권정보 JP-0171665 (1989-07-03)
발명자 / 주소
  • Kurumada Tomoyuki (Tokyo JPX) Osawa Hisayu (Tokyo JPX) Toda Toshimasa (Tokyo JPX) Tomono Hiromi (Yokkaichi JPX) Hasegawa Ryuichi (Yokkaichi JPX)
출원인 / 주소
  • Sankyo Company, Limited (Tokyo JPX 03) Monsanto Kasei Company (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 0

초록

The present invention relates to weather resistant resin compositions consisting essentially of at least one polymeric substance and comprising discoloration effective amounts of: (i) a hindered amine stabilizer; (ii) a hindered-phenol-hindered amine stabilizer; and (iii) a UV absorber.

대표청구항

A resin composition which is resistant to discoloration comprising: (A) 0.005 to 6 parts by weight of a hindered amine stabilizer of formula (I), [Figure] (I) wherein, R1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R2 represents a mono- to tetra-valent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Olson David B. ; Burns David M., Amide functional ultraviolet light absorbers for polyolefins.
  2. Beverly, Gordon Maxwell; Ellacott, Michael John, Biocidal plastic material.
  3. Walker, Eric; Ryan, Jim; Merheb, Elie, High chroma hals stabilized polymer composition.
  4. Andrews Stephen M., Stabilization of polycarbonate/ABS blends with mixtures of hindered amines and UV absorbers.
  5. Avakian Roger W. ; Enlow William P. ; Prabhu Vaikunth S. ; Gray Carloss L. ; Mahood James A., Stabilized thermoplastic compositions.
  6. Olson David B. ; Burns David M., UV light absorbing material comprising a carboxylic polymer and an amide compound, films, products, and methods of use.
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