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Method of manufacturing a silicon carbide-based material 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C04B-035/56
출원번호 US-0747499 (1991-08-19)
우선권정보 JP-0200374 (1987-08-11); JP-0220053 (1987-09-02); JP-0045637 (1988-02-26); JP-0112963 (1988-05-10)
발명자 / 주소
  • Tani Toshihiko (Aichi JPX) Wada Shigetaka (Mie JPX)
출원인 / 주소
  • Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho (Aichi JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 0

초록 ▼

A composition of raw materials comprising silicon carbide, a substance containing at least one of Group IVa to VIa elements except any boride thereof, and a substance containing boron except any of the borides of Group IVa to VIa elements, and further containing, if required, carbon, or an organic c

대표청구항 ▼

A method of manufacturing a silicon carbide-based material in which a boride of at least one of Group IVa, Va and VIa elements of the periodic table is dispersed, comprising: mixing in water, a composition of raw materials which consists essentially of silicon carbide, a substance containing at leas

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Yu,Yongsik; Gupta,Atul; Billington,Karen; Carris,Michael; Crew,William; Mountsier,Thomas W., Boron-doped SIC copper diffusion barrier films.
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  2. Lillo, Thomas M.; Chu, Henry S.; Harrison, William M., Composite materials and bodies including silicon carbide and titanium diboride and methods of forming same.
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  3. Ashkin, Daniel; Palicka, Richard, Compositions for improved ceramic armor.
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  4. Varadarajan, Bhadri N.; Gong, Bo; Yuan, Guangbi; Gui, Zhe; Lai, Fengyuan, Densification of silicon carbide film using remote plasma treatment.
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  5. Yu, Yongsik; Subramonium, Pramod; Fang, Zhiyuan; Henri, Jon; Apen, Elizabeth; Vitkavage, Dan, Diffusion barrier and etch stop films.
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  6. Rangarajan, Vishwanathan; Antonelli, George Andrew; Banerji, Ananda; Van Schravendijk, Bart, Hardmask materials.
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  7. Rangarajan, Vishwanathan; Antonelli, George Andrew; Banerji, Ananda; van Schravendijk, Bart, Hardmask materials.
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  8. Zhang, Shi C.; Hilmas, Gregory E.; Fahrenholtz, William G., High-density pressurelessly sintered zirconium diboride/silicon carbide composite bodies and a method for producing the same.
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  9. Yu, Yongsik; Billington, Karen; Tang, Xingyuan; Fu, Haiying; Carris, Michael; Crew, William, Low-K SiC copper diffusion barrier films.
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  10. Yu, Yongsik; Billington, Karen; Tang, Xingyuan; Fu, Haiying; Carris, Michael; Crew, William, Low-k SiC copper diffusion barrier films.
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  11. Yu, Yongsik; Gupta, Atul; Billington, Karen; Carris, Michael; Crew, William; Mountsier, Thomas W., Low-k b-doped SiC copper diffusion barrier films.
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  12. Zhang, Shi C.; Hilmas, Gregory E.; Fahrenholtz, William G., Method for pressurelessly sintering zirconium diboride/silicon carbide composite bodies to high densities.
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  13. Varadarajan, Bhadri N., Method to obtain SiC class of films of desired composition and film properties.
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  14. Chattopadhyay, Kaushik; Fox, Keith; Mountsier, Tom; Wu, Hui-Jung; van Schravendijk, Bart; Branshaw, Kimberly, Methods for reducing UV and dielectric diffusion barrier interaction.
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  15. Antonelli, George Andrew; Hollister, Alice; Reddy, Sirish, Oxygen-containing ceramic hard masks and associated wet-cleans.
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  16. Reynolds George H., Preparation of ceramic matrix composites by infiltration of fibrous preforms with fluids or slurries and subsequent pyrolysis.
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  17. Wu, Hui-Jung; Shafi, Kimberly; Chattopadhyay, Kaushik; Fox, Keith; Mountsier, Tom; Dixit, Girish; van Schravendijk, Bart; Apen, Elizabeth, Reducing UV and dielectric diffusion barrier interaction through the modulation of optical properties.
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  18. Varadarajan, Bhadri, Remote plasma based deposition of SiOC class of films.
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  19. Yu, Yongsik; van Schravendijk, Bart J.; Shankar, Nagraj; Varadarajan, Bhadri N., Staircase encapsulation in 3D NAND fabrication.
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