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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0582515 (1990-09-13) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 30 인용 특허 : 0 |
The method for depositing multilayers of PCD film onto the substrate comprises chemically depositing a polycrystalline diamond layers onto the substrate at deposition temperatures in the range of 650°to 825°C., interrupting the deposition process with a cool-down step and then depositing at least on
A chemical vapor deposition method for producing a coated substrate product comprising: placing a parent substrate comprising a material selected from the group consisting of a single crystal, polycrystalline materials, metal, metal alloy, mixture of metals, ceramic materials and mixtures thereof in
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