[특허]Thin film transistor and active matrix assembly including same

Thin film transistor and active matrix assembly including same 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H01L-027/12 H01L-027/02 H01L-027/10 H01L-029/06
출원번호	US-0203548 (1988-05-31)
우선권정보	JP-0061440 (1982-04-13); JP-0064892 (1982-04-19); JP-0143786 (1982-08-19)
발명자 / 주소	Mano Toshihiko (Suwa JPX) Kodaira Toshimoto (Suwa JPX) Ohshima Hiroyuki (Suwa JPX)
출원인 / 주소	Seiko Epson Corporation (Tokyo JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 25 인용 특허 : 0

초록

Thin film transistor including polycrystalline silicon or amorphous silicon thin film channel regions having a thickness of less than 2500 Åand active matrix assemblies including thin film transistors provide improved thin-type displays.

대표청구항 ▼

A metal-oxide-semiconductor transistor comprising: a glass insulating substrate; a thin film of silicon selected from the group consisting of polycrystalline silicon and amorphous silicon including a channel region of less than 2500 Åthickness disposed on said substrate; a source region and a drain region in said thin film silicon and spaced apart by said channel region, said source region and drain region formed from a dopant material and having throughout its region a thickness greater than the thickness of said channel region; an insulating film disposed on the surface of said thin film contacting at least a portion of the surface of each of said source, drain and channel regions; a gate electrode disposed on said insulating film and between said source and drain regions; and means for connecting said spaced apart source and drain regions and said gate electrode to external circuitry.

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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