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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0479651 (1990-02-14) |
우선권정보 | IT-0067924 (1986-12-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 105 인용 특허 : 0 |
A prosthetic device includes a turbostratic biocompatible carbon film firmly adherent to a substrate and having a density of at least 2.1 g/cm3. The carbon preferably is very thin, e.g., less than about one micron. The thin carbon biocompatible film covers at least that portion of the substrate whic
A method of forming a prosthetic device having a substrate, consisting essentially of: triode cathodic sputtering of carbon at a low temperature and a pressure of between 6×10-4 to 6×10-3 mbar and at a sputtering voltage of from about 2,000 to 3,200 volts and a sputtering current of from about 0.1 t
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