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Polysilamethylenosilanes and process for their preparation 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C07F-007/08
출원번호 US-0813231 (1991-12-23)
우선권정보 KR-0003019 (1991-02-25)
발명자 / 주소
  • Jung Il-Nam (Seoul KRX) Lee Gyu-Hwan (Seoul KRX) Yeon Seung-Ho (Seoul KRX) Suk Mi-Yeon (Seoul KRX)
출원인 / 주소
  • Korea Institute of Science and Technology (Seoul KRX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 0

초록

The invention is concerned with novel polysilamethylenosilane polymers having polysilane-polycarbosilane skeleton which can be prepared in one-step reaction from mixtures of chlorosilaalkanes and organochlorosilanes with alkali metals in one of appropriate solvents or in combination of solvents ther

대표청구항

A process for the preparation of polysilamethylenosilane polymers having formula III which comprises dechlorinating 2,4,6-trisilaheptanes having formula I, dimethyldichlorosilane and trichlorosilanes having formula II with sodium in the presence of toluene or mixture of toluene and tetrahydrofuran a

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Pope,Edward J. A.; Kratsch,Kenneth M., Application of photocurable pre-ceramic polymers.
  2. Pope,Edward J. A.; Kratsch,Kenneth M., Applications of photocurable pre-ceramic polymers.
  3. Pope, Edward J. A.; Hepp, Jozsef; Kratsch, Kenneth M., Ceramic filters formed from photocurable pre-ceramic polymers.
  4. Okamura,Kiyohito; Narisawa,Masaki; Nishioka,Masaki; Dohmaru,Takaaki; Oka,Kunio; Katoh,Yutai; Kohyama,Akira, Process for producing reinforcing SiC fiber for SiC composite material.
  5. Kobayashi Michiko (Kawasaki JPX) Fukuyama Syun-ichi (Kawasaki JPX) Nakata Yoshihiro (Kawasaki JPX) Naitou Masanori (Kawasaki JPX) Kudo Hiroshi (Kawasaki JPX) Ohkura Yoshiyuki (Kawasaki JPX), Process for the production of semiconductor devices.
  6. Lyu,Yi Yeol; Yim,Jin Heong; Song,Ki Yong; Jeong,Hyun Dam; Ryu,Joon Sung, Siloxane-based resin and interlayer insulating film formed using the same.
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