[특허]Method for the production of a semiconductor device by implanting fluorocarbon ions

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Method for the production of a semiconductor device by implanting fluorocarbon ions 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H04L-021/265
출원번호	US-0740197 (1991-08-02)
우선권정보	JP-0207001 (1990-08-03)
발명자 / 주소	Sato Hiroya (Tenri JPX) Kinosada Toshiaki (Izumi JPX) Nakagawa Yasuhito (Nara JPX)
출원인 / 주소	Sharp Kabushiki Kaisha (Osaka JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 10 인용 특허 : 0

초록

There is provided a method for producing a semiconductor device having a semiconductor layer in which carbon is implanted as an impurity. The method includes the steps of: implanting fluorocarbon ions in a semiconductor layer; and annealing the semiconductor layer to activate the implanted ions.

대표청구항

A method for producing a semiconductor device having a semiconductor layer in which carbon is implanted as an impurity, comprising the steps of: implanting fluorocarbon ions in a semiconductor layer; and annealing the semiconductor layer to activate the implanted ions.

이 특허를 인용한 특허 (10)

David P. Mancini ; Steven M. Smith ; Douglas J. Resnick, Amorphous carbon layer for improved adhesion of photoresist and method of fabrication.
상세보기
Yih-Feng Chyan ; Chung Leung, Bipolar semiconductor device and method of forming same having reduced transient enhanced diffusion.
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Goto Kenichi,JPX ; Kase Masataka,JPX ; Matsuo Jiro,JPX ; Yamada Isao,JPX ; Takeuchi Daisuke,JPX ; Toyoda Noriaki,JPX ; Shimada Norihiro,JPX, Boron doping by decaborane.
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Walukiewicz, Wladyslaw; Yu, Kin M., Co-implantation of group VI elements and N for formation of non-alloyed ohmic contacts for n-type semiconductors.
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Thomas N. Horsky, Electron beam ion source with integral low-temperature vaporizer.
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Enquist Paul, Heterojunction bipolar transistor and method of manufacturing.
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Furukawa,Toshiharu; Hakey,Mark C.; Holmes,Steven J.; Horak,David V., Irradiation assisted reactive ion etching.
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Bishop,James K.; Guay,Christopher K., Method and apparatus for measuring birefringent particles.
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Kobayashi, Shinji, Method of producing chromium mask.
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Arevalo, Edwin A.; Hatem, Christopher R.; Renau, Anthony; England, Jonathan Gerald, Techniques for forming shallow junctions.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

KIPRIS 원문보기

IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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