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Dispersion-compensated fresnel lens 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G02B-005/18
  • G02B-003/08
출원번호 US-0537230 (1990-06-13)
발명자 / 주소
  • Johnson Kenneth C. (1215 Brewster Dr. El Cerrito CA 94530)
인용정보 피인용 횟수 : 30  인용 특허 : 0

초록

A transmission grating is used to reduce chromatic aberration in a Fresnel lens, wherein the lens chromatic dispersion is offset and substantially canceled by the grating\s diffraction-induced dispersion. The grating comprises a Fresnel-type pattern of microscopic facets molded directly into the len

대표청구항

A dispersion-compensated Fresnel lens which accepts a polychromatic, dispersionless input beam having a specific wavefront form and transforms it into a polychromatic output beam substantially of a specific desired wavefront form with minimal dispersion, wherein: at least one side of the lens compri

이 특허를 인용한 특허 (30)

  1. Yun, Wenbing; Wang, Yuxin; Nill, Kenneth W., Achromatic fresnel optics based lithography for short wavelength electromagnetic radiations.
  2. Yun, Wenbing; Wang, Yuxin, Achromatic fresnel optics for ultraviolet and x-ray radiation.
  3. Kato Masaki (Tokyo JPX) Mizutani Hideo (Kanagawa JPX) Tanaka Masashi (Kanagawa JPX), Alignment apparatus and exposure apparatus equipped therewith.
  4. Michihiro Yamagata JP; Kazutake Boku JP; Yasuhiro Tanaka JP; Tomohiko Sasano JP; Shusuke Ono JP, Device for calculating diffraction efficiencies of a diffraction lens, lens with grating element, and optical system for reading.
  5. Yamagata,Michihiro; Boku,Kazutake; Tanaka,Yasuhiro; Sasano,Tomohiko; Ono,Shusuke, Device for calculating diffraction efficiencies of a diffraction lens, lens with grating element, and optical system for reading.
  6. Nakai, Takehiko, Diffractive optical element and optical apparatus having the same.
  7. Paul D. Maker ; Richard E. Muller ; Daniel W. Wilson, Diffractive optical elements on non-flat substrates using electron beam lithography.
  8. Large Timothy Andrew,GBX, Diffractive structure on inclined facets.
  9. Hebert, Raymond T., Eyepiece lens with protected Fresnel and diffractive surfaces.
  10. Druart, Guillaume; De La Barriere, Florence; Crastes, Arnaud, Imaging system comprising a Fresnel lens.
  11. Arriola Edmund W., Low weight, achromatic, athermal, long wave infrared objective lens.
  12. Saccomanno, Robert J.; Steiner, Ivan B., Luminaire with a one-sided diffuser.
  13. Grubb Dennis, Method and apparatus for a tubular skylight system.
  14. Richards David A., Method for fabricating tools for molding diffractive surfaces on optical lenses.
  15. Meyers Mark M. (Hamlin NY) Schickler Mark E. (Webster NY), Method of manufacturing a diffractive surface profile.
  16. Weeber, Hendrik A., Multi-ring lens, systems and methods for extended depth of focus.
  17. Weeber, Hendrik A., Multi-ring lens, systems and methods for extended depth of focus.
  18. Meyerhofer Dietrich (Princeton NJ) Burstyn Herschel C. (Plainsboro NJ), Optical system for a head mounted display.
  19. Johnson, Kenneth C., Optical systems and methods for absorbance modulation.
  20. Iba Yoichi (Tokyo JPX), Optical systems making use of phase type fresnel zone plates.
  21. Staub Rene,CHX ; Tompkin Wayne Robert,CHX, Optically variable surface pattern.
  22. Nelson John C. (Sea Ranch CA) Fesler Robert M. (Austin TX) Vanderwerf Dennis F. (Austin TX), Overhead projector with catadioptric fresnel lens.
  23. Bates, David J.; Haynes, Andrew L.; Partridge, Ashton C., Polymeric solar concentrator and solar thermal device incorporating same.
  24. Kim, Man-Suk, Prism diffuser for diffracting and spreading light.
  25. Gerald Nykolak ; Herman Melvin Presby ; Paul F. Szajowski, Receiving system for free-space optical communications.
  26. Yun, Wenbing; Wang, Yuxin, Reflective lithography mask inspection tool based on achromatic Fresnel optics.
  27. Johnson, Kenneth C., Scanned-spot-array EUV lithography system.
  28. Tompkin, Wayne Robert; Staub, René; Schilling, Andreas, Security element comprising micro- and macrostructures.
  29. Johnson, Kenneth C., Spot-array imaging system for maskless lithography and parallel confocal microscopy.
  30. McRuer, Robert, Virtual imaging system.
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