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Method for making ultrapure sulfuric acid 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01D-003/14
  • C01B-017/90
출원번호 US-0571250 (1990-08-22)
발명자 / 주소
  • Clark R. Scot (Fallbrook CA) Davison John B. (Laguna Hills CA) Persichini David W. (Oceanside CA) Yuan Wallace I. (Irvine CA) Lipisko Bruce A. (Encinitas CA) Jones Alan W. (Mountain View CA) Jones
출원인 / 주소
  • Athens Corporation (Oceanside CA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 18  인용 특허 : 0

초록 ▼

Method for the production of ultrapure sulfuric acid including distillation of sulfuric acid material for the removal of soluble impurities and insoluble and non-volatile particles of 10 microns to 0.2 micron or less in size. Reprocessing is also provided. Distillation takes place in a distillation

대표청구항 ▼

A process for the reprocessing and repurification of a sulfuric acid containing material being utilized in a chemical process in which the sulfuric acid containing material contains contaminants as a result of use of sulfuric acid material in the chemical process, the contaminants including particle

이 특허를 인용한 특허 (18)

  1. Fishkin Boris ; Brown Kyle A., Aerosol substrate cleaner.
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  2. Campbell, Levi A.; Chu, Richard C.; David, Milnes P.; Ellsworth, Jr., Michael J.; Iyengar, Madhusudan K.; Simons, Robert E.; Singh, Prabjit; Zhang, Jing, Cooling method with automated seasonal freeze protection.
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  3. Campbell, Levi A.; Chu, Richard C.; David, Milnes P.; Ellsworth, Jr., Michael J.; Iyengar, Madhusudan K.; Simons, Robert E.; Singh, Prabjit; Zhang, Jing, Cooling system with automated seasonal freeze protection.
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  4. Kremerman, Elliot, Equal temperature distillation chamber and method.
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  5. Eguchi, Katsuya; Hayamizu, Naoya; Fukui, Hiroyuki, Etching liquid, etching method, and method of manufacturing electronic component.
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  6. Kremerman, Elliot, High efficiency distribution adapter and method of use.
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  7. Kremerman, Elliot, Integrated distillation chamber and discharge unit with integrated key.
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  8. Kremerman, Elliot, Laminar flow distribution adapter.
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  9. Dove, Curtis Douglas; Chang, Goang-Cheng; Kung, Yuen-Ming; Chan, Hung-Wen; Hsu, Wei-Hsuan, Method for manufacturing high purity sulfuric acid.
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  10. Ahmed, Iqbal; Balkhair, Khaled Saeed; Albeirutty, Mohammad H., Microwave-assisted distillation system.
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  11. Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot, On-site ammonia purification for semiconductor manufacture.
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  12. Joe G. Hoffman ; R. Scot Clark, On-site generation of ultra-high-purity buffered-HF and ammonium fluoride.
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  13. Xu Mindi ; Yuan Wallace I. ; Jacksier Tracey ; Wang Hwa-Chi ; Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot, On-site manufacture of ultra-high-purity nitric acid.
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  14. Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot, Point-of-use ammonia purification for electronic component manufacture.
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  15. Oikari James R. ; Olson Erik D., Process for enhanced photoresist removal in conjunction with various methods and chemistries.
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  16. Morisaki Akira,JPX, Process for producing high-purity sulfuric acid.
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  17. Uehara, Haruo, Pure liquid manufacturing apparatus.
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  18. Schechter Israel,ILX, Spectral imaging method for on-line analysis of polycyclic aromatic hydrocarbons in aerosols.
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