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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0706464 (1991-05-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 23 인용 특허 : 0 |
The present invention relates to the deposition of coatings containing silicon and oxygen from vaporized hydrogen silsesquioxane resin. The process comprises introducing the hydrogen silsesquioxane vapor into a deposition chamber containing the substrate to be coated and then inducing reaction of th
A method of depositing a coating containing silicon and oxygen on a substrate comprising: introducing a gas comprising hydrogen silsesquioxane into a deposition chamber containing the substrate; and inducing reaction of the hydrogen silsesquioxane by the addition of energy to form the coating.
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