최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0456421 (1989-12-26) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 45 인용 특허 : 0 |
The ultraviolet absorption characteristics of a polymer material are modified by the addition of an ultraviolet absorbing dye to render it laser ablatable at a frequency at which the unmodified material is substantially non-laser ablatable.
A method of making a high density interconnect structure, comprising: providing a module substrate having a plurality of integrated circuit chips disposed in at least one cavity in the module substrate, the integrated circuit chips having contact pads on upper surfaces thereof; providing a dye-conta
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.