[특허]Plasma processing method and plasma generating device

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	H05H-001/24
출원번호	US-0777708 (1991-10-21)
우선권정보	JP-0286883 (1990-10-23)
발명자 / 주소	Koinuma Hideomi (Tokyo) Yamazaki Shunpei (Tokyo) Hayashi Shigenori (Kanagawa) Miyanaga Akiharu (Kanagawa) Shiraishi Tadashi (Kanagawa JPX)
출원인 / 주소	Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. (Kanagawa JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 34 인용 특허 : 0

초록 ▼

A plasma generating device includes a central conductor, a peripheral cylindrical conductor surrounding the central conductor, an insulating cylinder interposed between the central conductor and the peripheral conductor in order to prevent direct arc discharge from occurring between the central conductor and the peripheral conductor. The central and peripheral conductors and the insulating cylinder are coaxially arranged in order to define a cylindrical discharging space therein. By applying a high frequency energy to the central conductor, glow discharge is caused between the central and peripheral conductors. A reactive gas is introduced from one end of the discharging space, excited by the glow discharge and goes out from the other end as an excited plasma to a working place where a work piece is processed by the plasma.

대표청구항 ▼

A plasma generating device comprising: a central electrode; a peripheral electrode surrounding said central electrode; an insulating cylinder interposed between said central electrode and said peripheral electrode and extending beyond lower ends of both said central electrode and said peripheral electrode in order to prevent direct arc discharge from occurring between said central electrode and said peripheral electrode; a supporting structure for supporting said central electrode, said peripheral electrode and said insulating cylinder in order to define a discharging space between said central electrode and said insulating cylinder; an alternating current source operatively connected with said central electrode and said peripheral electrode in order to induce an alternating electric field therebetween; and a gas supply system for supplying a reactive gas into said discharging space.

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