[특허]Process for the purification of the inert gases

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C01B-013/00
출원번호	US-0710190 (1991-05-30)
발명자 / 주소	Jain Ravi (Piscataway) Tamhankar Satish S. (Scotch Plains) LaCava Alberto I. (South Plainfield NJ)
출원인 / 주소	The BOC Group, Inc. (New Providence NJ 02)
인용정보	피인용 횟수 : 15 인용 특허 : 0

초록 ▼

A process for producing a substantially oxygen-free gaseous product such as argon containing not more than one ppm by volume of oxygen is disclosed. The process comprises introducing hydrogen into a gas stream which contains oxygen and moisture, contacting the gas stream with a dessicant to remove substantially all of the moisture therefrom, contacting the substantially anhydrous gas stream with an oxidation catalyst to convert substantially all of the oxygen in the gas stream to water, and contacting the resultant gas stream with a dessicant to remove the water created in the oxidation step. The product stream may be further purified to remove residual hydrogen contained therein.

대표청구항 ▼

A process for the removal of oxygen from a gas stream containing water vapor and up to about 3 vol % oxygen comprising: a) introducing hydrogen into the gas stream to the extent necessary to ensure that the gas stream contains at least sufficient hydrogen to enable all of the oxygen in the gas stream to be converted to water; b) contacting the gas stream with an oxidation catalyst in a first catalysis zone, thereby combining a substantial amount of the oxygen in the stream with hydrogen to form water, and producing a gaseous effluent containing not greater than about 500 vpm oxygen; c) cooling the gaseous effluent from said first catalysis zone; d) contacting the cooled gaseous effluent with an solid adsorbent in a first adsorption zone, thereby removing substantially all of the water and any oxidation catalyst poisons contained in the cooled gaseous effluent; e) contacting the substantially anhydrous effluent from said first adsorption zone with an oxidation catalyst in a second catalysis zone, thereby combining substantially all of the oxygen in said substantially anhydrous effluent with hydrogen to produce water; and f) contacting the gaseous effluent from said second catalysis zone with an adsorbent in a second adsorption zone, thereby producing a gaseous stream containing not more than about 1 vpm of oxygen, and not more than about 1 vpm water.

이 특허를 인용한 특허 (15)

Malloy,Shawn T.; Purinton,Roger W.; Johnson,Dana M.; Labelle,Anthony R.; Spencer,Shane L., Gas burner assemblies, methods for assembling, and gas fired appliances employing same.
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Srivastava, Abneesh; Gaffney, Thomas Richard; Cook, Joshua T.; Shorgen, Peter K.; Murphy, Daimhin Paul; da Costa Pereira, Stenio, Gas purifier.
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Ohmi, Tadahiro; Yazaki, Ryuichi; Kawai, Masato; Kimijima, Tetsuya; Matsuda, Kunio, Gas purifying process and device.
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McHugh ; III Manus, Krypton gas mixture for insulated windows.
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Murphy William L. ; Wilson Bruce A., Method for forming a reactive medium.
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Jain Ravi ; Tseng James K., Process for argon purification.
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Tatsuya Usami JP, Process for fabricating semiconductor device, apparatus using more than one kind of inert gas for evacuating air and method for entering wafer into the apparatus.
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Rao, Madhukar Bhaskara, Process for recovery, purification, and recycle of argon.
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Wu,Dingjun; Golden,Timothy Christopher; Dong,Chun Christine; Battavio,Paula Jean, Purification of hydride gases.
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Murphy,William; Edlund,Eric; Brown,Kurt, Purifier.
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Brown,Kurt E.; Murphy,William L., Reactive media, methods of use and assemblies for purifying.
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Murphy William L. ; Wilson Bruce A., Reactive medium for purifying fluids.
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Shadman Farhang F. (Tucson AZ), Reactive membrane for filtration and purification of gases of impurities and method utilizing the same.
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Lorimer D'Arcy H. ; Applegarth Charles H., Semiconductor manufacturing system with getter safety device.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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