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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0834787 (1992-02-13) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 31 인용 특허 : 0 |
This invention uses a first or roughing stage to remove the bulk of moisture and a second or polishing stage to complete the drying. The first stage can use a relatively small membrane area and a relatively low quality purge gas whereas the second stage can use a large membrane area and high quality
A process for drying wet gas streams in a membrane system, said process comprising steps of: (a) passing a feed gas stream containing wet components under pressure to at least one first stage membrane having about 6% to about 80% of the total membrane surface area in the system; (b) passing a gas st
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