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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0888277 (1992-05-26) |
우선권정보 | JP-0262853 (1986-11-06); JP-0191949 (1987-07-30) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 22 인용 특허 : 0 |
A driving mechanism usable in an electron beam exposure apparatus, X-ray exposure apparatus, ion beam exposure apparatus, evaporation apparatus, chemical vapor deposition apparatus or otherwise, for rectilinearly moving a wafer carrying stage in a vacuum chamber is disclosed. The mechanism includes
A driving mechanism, comprising: a rod-like member having a flange; a cylindrical member for accommodating therein said rod-like member, said cylindrical member defining an interior space divided by said flange into two substantially independent spaces, wherein a clearance is defined between said cy
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