[특허]Follow-up system for etch process monitoring

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G01B-011/02
출원번호	US-0821108 (1992-01-15)
우선권정보	EP-0480070 (1989-04-28)
발명자 / 주소	Auda Bernard (Linas/Montlhery FRX) Chanclou Roland (Perthes en Gatinais FRX)
출원인 / 주소	International Business Machines Corporation (Armonk NY 02)
인용정보	피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 0

초록

A follow-up system for monitoring the etching process in RIE equipment. A spectrometer is used in an interferometric mode for accurate thickness measuring to produce high-resolution and reproducible patterns in a layer of etchable material formed on a substrate.

대표청구항 ▼

A follow-up system for monitoring the etching process in RIE equipment to produce high-resolution and reproducible patterns in a structure to be etched, having a treatment chamber for containing a plasma, which produces a glow discharge during the etching process, and provided with a quartz view port and a susceptor that holds a semiconductor wafer bearing said structure, said system comprising: (a) an optical fiber means disposed close to said view port and perpendicular to said wafer; (b) spectrometer means for filtering one line of a determined species that is produced during the etching process by the glow discharge to select a characteristic wavelength l

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Cong, Hai; Loh, Wei Loong; Gopal, Krishan; Zhang, Xin; Zhou, Mei Sheng; Yelehanka, Pradeep Ramachandramurthy, Processing with reduced line end shortening ratio.
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Li, Shifang; Bao, Junwei; Chu, Hanyou; Jin, Wen; Meng, Ching-Ling; Xu, Weiwen; Wang, Ping; Tuitje, Holger; Mihaylov, Mihail; Tian, Xinkang, System for in-situ film stack measurement during etching and etch control method.
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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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