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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0773188 (1991-10-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 175 인용 특허 : 0 |
Alkali-free layers of pure metals such as copper, nickel and cobalt were deposited on noble metal or noble metal sensitized substrates by electroless deposition using pure quaternary ammonium hydroxides or quaternary phosphonium hydroxides to generate the hydroxyl ion (OH-) needed to produce electro
An electroless deposition composition, free of alkali metal and suitable for depositing a metal layer on a noble metal or noble metal sensitized substrate, comprising: a) a source of metal ions; said metal selected from the group consisting of copper, cobalt, nickel and silver; b) a quaternary onium
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