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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0923674 (1992-08-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 80 인용 특허 : 0 |
A method of making a backside illuminated image includes forming a device on the frontside of thin device layer provided on an oxide layer which is mounted on a sacrificial substrate and bonding the front side of the device layer to a permanent silicon support substrate. Thereafter, the oxide layer
In a method of making an image sensor which will be backside illuminated, comprising the steps of: (a) forming a first oxide layer on a thin epitaxial device layer grown on a first sacrificial silicon substrate; (b) forming a boron containing region at the interface of the backside of the device lay
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