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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0866079 (1992-04-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 0 |
A process for physical vapor deposition of a refractory coating such as titanium nitride on a nonconductive substrate such as a ceramic substrate and the coated substrate produced thereby. The nonconductive substrate is coated by cleaning the nonconductive substrate surfaces and then depositing a fi
A tool insert coated by physical vapor deposition using an applied electrical bias comprising: (a) a nonconductive ceramic substrate; (b) a first layer of titanium deposited by physical vapor deposition on said ceramic substrate; (c) a second layer of titanium nitride adherently deposited on said fi
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