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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0817648 (1992-01-07) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 120 인용 특허 : 0 |
Selective demetallization of an etchable metal film supported on a polymeric material or other microwave transparent material, particularly an etchable metal film, particularly aluminum, of thickness at least about 1 micron adhesively joined to a flexible polymeric material substrate, is described.
A novel laminate structure, comprising: a flexible polymeric substrate layer resistant to aqueous sodium hydroxide solution etchant, a layer of adhesive coextensive with said substrate resistant to aqueous sodium hydroxide solution etchant, a layer of an etchable metal comprising aluminum having a t
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