검색연산자 | 기능 | 검색시 예 |
---|---|---|
() | 우선순위가 가장 높은 연산자 | 예1) (나노 (기계 | machine)) |
공백 | 두 개의 검색어(식)을 모두 포함하고 있는 문서 검색 | 예1) (나노 기계) 예2) 나노 장영실 |
| | 두 개의 검색어(식) 중 하나 이상 포함하고 있는 문서 검색 | 예1) (줄기세포 | 면역) 예2) 줄기세포 | 장영실 |
! | NOT 이후에 있는 검색어가 포함된 문서는 제외 | 예1) (황금 !백금) 예2) !image |
* | 검색어의 *란에 0개 이상의 임의의 문자가 포함된 문서 검색 | 예) semi* |
"" | 따옴표 내의 구문과 완전히 일치하는 문서만 검색 | 예) "Transform and Quantization" |
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) | A63C-005/07 |
미국특허분류(USC) | 280/602 ; 280/607 ; 280/618 |
출원번호 | US-0900604 (1992-06-18) |
발명자 / 주소 | |
인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 5 |
A system for changing the stiffness of a ski includes apparatus for variably limiting the longitudinal movement of a ski binding support plate mounted on a ski. The degree of movement determines the amount of bending possible, and thus controls ski stiffness.
A system for changing the stiffness of a ski, the ski having a forward end and a rearward end, said system comprising: an elongated, substantially rigid engagement member attached to a ski and having active surfaces with a forward facing end surface and a rearward facing end surface, and means for supporting said engagement member for movement longitudinally relative to said support means and the ski as the ski bends; and adjustable impedance means operatively engageable with said forward facing end surface and adjustable impedance means operatively enga...