[특허]Method of reducing particulate concentration in process fluids

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Method of reducing particulate concentration in process fluids 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B08B-007/00 C03C-023/00
출원번호	US-0893496 (1992-06-04)
발명자 / 주소	Cathey David A. (Boise ID)
출원인 / 주소	Micron Semiconductor, Inc. (Boise ID 02)
인용정보	피인용 횟수 : 19 인용 특허 : 0

초록 ▼

Methods for reducing the number of adherent particulates in processing solutions to avoid deposition of such particulates onto a substrate treated with those processing solutions. For example, hydrogen fluoride-containing acids used to etch silicon dioxide layers during silicon wafer processing produce fluorosilicate particulates that tend to adhere to and contaminate the silicon substrate. Directing the processing solution carrying the fluorosilicate particulates to a filter employing silicon beads to remove the contaminant fluorosilicate particulates before they can recirculate and adhere to the silicon substrate.

대표청구항 ▼

A method of reducing the number of adherent particulates in a process fluid, the adherent particulates being formed by a reaction of the process fluid with a material formed on a substrate to which the adherent particulates have an affinity, comprising: generating process fluid flow to cause a reaction of the process fluid with the material formed on the substrate, the reaction producing in the process fluid adherent particulates having an affinity for the substrate; and directing flow of the process fluid carrying the adherent particulates to contact an adherent particulate removal filter, the filter being composed of a material from which the substrate is made, thereby to remove the adherent particulates from the process fluid by adherence to a filter that includes the same type of material as that of the substrate.

이 특허를 인용한 특허 (19)

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Doh,Yong Il, Apparatus for etching a glass substrate.
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Small Robert J. ; Cheng Jun ; Maw Taishih, Compositions for cleaning organic and plasma etched residues for semiconductors devices.
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Youn, Won Gyun; Chung, In Jae, Glass substrate for liquid crystal display device.
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Kim Woong Kwon,KRX, Liquid crystal display device having thin glass substrate on which protective layer formed and method of making the same.
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Ronay Maria, Method for cleaning a surface.
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Sorensen Troy (Boise ID) Grieger Eric (Boise ID), Method for gettering noble metals from mineral acid solution.
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Nakano Masami (Fukushima-ken JPX) Uchiyama Isao (Fukushima-ken JPX) Takamatsu Hiroyuki (Fukushima-ken JPX) Suzuki Morie (Fukushima-ken JPX), Method of cleaning silicon wafers in cleaning baths with controlled vertical surface oscillations and controlled in/out.
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Grant Donald C. (Excelsior MN), Point-of-use recycling of wafer cleaning substances.
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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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