최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0081052 (1993-06-25) |
우선권정보 | JP-0192876 (1992-06-26) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 118 인용 특허 : 0 |
In order to remove oxides produced as a result of natural oxidation, from a semiconductor wafer, the semiconductor wafer is transported into a preparatory chamber filled with an inert gas via a loading/unloading passage and held by open/close pins of a loading platform atop an intermediate cover low
A method for surface treating of a treatment object comprising the steps of: transporting a treatment object into a preparatory chamber filled with an inert gas and holding the treatment object on a loading platform atop an intermediate cover in the preparatory chamber; closing the preparatory chamb
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.