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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0039911 (1993-03-30) |
우선권정보 | JP-0077785 (1992-03-31) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 15 인용 특허 : 0 |
A plasma generating method comprises: a first step of disposing a plurality of lateral electrodes at lateral sides of a plasma generating part in a vacuum chamber; a second step of respectively applying, to the lateral electrodes, high frequency electric powers of which frequencies are the same as o
A plasma generating method comprising: a first step of disposing three of more lateral electrodes at lateral sides of a plasma generating part in a vacuum chamber; a second step of respectively applying, to said lateral electrodes, high frequency electric powers of which frequencies are the same as
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