[특허]Process for cleaning silicon mass and the recovery of nitric acid

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[미국특허] Process for cleaning silicon mass and the recovery of nitric acid 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B08B-003/04
출원번호	US-0967066 (1992-10-28)
우선권정보	JP-0308268 (1991-10-29)
발명자 / 주소	Ito Hideo (Yokkaichi JPX) Narukawa Mitsutoshi (Yokkaichi JPX) Sakai Kazuhiro (Yokkaichi JPX)
출원인 / 주소	Hi-Silicon, Co., Ltd. (Mie JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 7 인용 특허 : 0

초록 ▼

In a process for cleaning a silicon mass with a acid washing solution, a waste solution containing a mixed acid composed of nitric acid and hydrofluoric acid is introduced to a distillation step, and hydrofluoric acid is introduced to a distillation cooling portion to prevent precipitation of silico

대표청구항 ▼

A process comprising: sufficiently heating a liquid waste solution “obtained from cleaning a polycrystalline silicon mass”has been inserted after which comprises nitric acid, hydrofluoric acid, hydrosilicofluoric acid, and water so as to boil off a hydrofluoric acid containing vapor; transmitting said hydrofluoric acid containing vapor, said heating being effective to remove the hydrosilicofluoric acid to a condensation region; condensing said vapor in said condensation region to form a liquid condensate; and recovering said nitric acid as a substantially pure solution; wherein liquid hydrofluoric acid is added to said condensation region during said condensing step.

이 특허를 인용한 특허 (7) 인용/피인용 타임라인 분석

Wochner Hanns,DEX ; Bauer Theresia,DEX ; Dietl Josef,DEX ; Ott Werner,DEX ; Pichler Herbert,ATX ; Schmidbauer Wilhelm,DEX ; Seifert Dieter,DEX ; Weizbauer Susanne,DEX, Method for producing a semiconductor material.
상세보기
Kunze-Concewitz Horst,DEX, Method of cleaning surfaces with water and steam.
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Yamauchi, Norichika; Shimada, Takehiko, Method of selecting and analyzing scrap silicon.
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Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot, On-site ammonia purification for semiconductor manufacture.
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Joe G. Hoffman ; R. Scot Clark, On-site generation of ultra-high-purity buffered-HF and ammonium fluoride.
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Xu Mindi ; Yuan Wallace I. ; Jacksier Tracey ; Wang Hwa-Chi ; Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot, On-site manufacture of ultra-high-purity nitric acid.
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Hoffman Joe G. ; Clark R. Scot, Point-of-use ammonia purification for electronic component manufacture.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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