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Washing/drying method and apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-003/10
출원번호 US-0005329 (1993-01-15)
우선권정보 JP-0116439 (1990-05-01)
발명자 / 주소
  • Yoshida Ichiro (Nagano JPX) Iida Hiroshi (Nagano JPX)
출원인 / 주소
  • Fujitsu Limited (Kawasaki JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 9  인용 특허 : 0

초록

A washing/drying method, comprising: dipping a material to be washed into an aqueous solution containing a surfactant having a water repellency so that at least one molecular layer of the water repellent surfactant is attached to the surface of the material to be washed; and then drying the material

대표청구항

A washing/drying apparatus for a material to be washed and dried, comprising: a water vessel which contains an aqueous solution, comprising a surfactant having a water repellency, of a sufficient volume for dipping and thereby washing the material therein and thereby attaching water repellent surfac

이 특허를 인용한 특허 (9)

  1. Wen-Jang Lu TW; Yi-Ta Tsou TW; Hui-Xiu Tang TW, Apparatus and method for cleaning wafer.
  2. Kwon, Oh Nam; Cho, Heung Lyul, Apparatus for fabricating thin film transistor array substrate.
  3. Katagiri Hiroyuki,JPX ; Segi Yoshio,JPX ; Matsuoka Hideaki,JPX ; Takada Kazuhiko,JPX, Cleaning method and cleaning apparatus, and electrophotographic photosensitive member and cleaning method of electrophotographic photosensitive member.
  4. Shindo Naoki,JPX ; Yamasaka Miyako,JPX ; Kamikawa Yuji,JPX, Liquid treatment method and apparatus.
  5. Kunze-Concewitz Horst,DEX, Method of cleaning surfaces with water and steam.
  6. Katagiri, Hiroyuki; Segi, Yoshio; Matsuoka, Hideaki; Takada, Kazuhiko, Method of manufacturing an electrophotographic photosensitive member including multiple liquid cleaning steps and machining step.
  7. Zieger, Claus Dieter; Zieger, Niclas Henning; Buzzi, Guenther, Multiple proportion delivery systems and methods.
  8. Yuji Kamikawa JP, Treatment apparatus.
  9. Kuroda Takeshi,JPX ; Kanno Itaru,JPX, Washing apparatus and method therefor.
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