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Method for removing particulate matter 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-007/00
  • B08B-007/02
  • B08B-003/02
출원번호 US-0097172 (1993-07-23)
발명자 / 주소
  • Williford
  • Jr. John F. (7155 NE. 126th St. Kirkland WA 98034)
인용정보 피인용 횟수 : 36  인용 특허 : 0

초록

A method for controlling the effective velocity of a spray of cleaning material in order to remove particulate matter and other contamination from a surface of a workpiece. The surface under treatment is moved relative to the position of a sprayhead in order to increase or reduce the velocity at whi

대표청구항

A method for removing particulate matter from a workpiece, comprising the steps of: placing the workpiece on a support plate; rotating the support plate in a first direction; and directing a stream of a cleaning material towards the workpiece to impact on the workpiece in a region radially displaced

이 특허를 인용한 특허 (36)

  1. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  2. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  3. Champaigne Jack M. (South Bend IN), Anti-gravity blast cleaning.
  4. Ko,Se Jong; Kim,Jung Gwan; Yoon,Cheol Nam; Lee,Jeong Ho, Apparatus for cleaning the edges of wafers.
  5. Bran,Mario E., Apparatus for megasonic processing of an article.
  6. Liu, Yang; Wu, Qiang, Edge bead removal apparatus.
  7. Liu, Yang; Wu, Qiang, Edge bead removal apparatus and methods.
  8. Becker David Scott ; Hanestad Ronald J. ; Thomes Gregory P. ; Weygand James F. ; Zimmerman Larry D., Eliminating stiction with the use of cryogenic aerosol.
  9. Hamilton Thomas I., Gas-driven portable self-contained vacuum device.
  10. Zito Richard R., High dispersion carbon dioxide snow apparatus.
  11. Freer, Erik M.; de Larios, John M.; Mikhaylichenko, Katrina; Ravkin, Michael; Korolik, Mikhail; Redeker, Fritz C., Method and apparatus for particle removal.
  12. Mase, Keiji; Chino, Daisuke; Hinata, Masato, Method and device for cutting out hard-brittle substrate and protecting regions on the substrate.
  13. Kral,Jude A.; Centanni,Michael A., Method for cleaning a lumen.
  14. Bran, Mario E., Method for megasonic processing of an article.
  15. Bran,Mario E., Method of cleaning a side of a thin flat substrate by applying sonic energy to the opposite side of the substrate.
  16. Jackson, David P., Method of forming cryogenic fluid composition.
  17. Bran, Mario E., Method of manufacturing integrated circuit devices.
  18. Wu, Jun; Lu, Dong Xuan; Lin, Shih Chi; Lee, Wen Long; Jian, Yi An; Wang, Guang Cheng; JangJian, Shiu Ko; Ni, Chyi Tsong; Wu, Szu An; Wang, Ying Lang, Methods of spin-on wafer cleaning.
  19. Ishizawa,Yoshinori; Nakano,Yoshihiro, Nail gun provided with duster function.
  20. Yoon, Cheol-Nam, Nozzle for spraying sublimable solid particles entrained in gas for cleaning surface.
  21. Yoon,Cheol Nam, Nozzle for spraying sublimable solid particles entrained in gas for cleaning surface.
  22. Hashish, Mohamed; Tacheron, Paul; Craigen, Steven J.; Schuman, Bruce M., Process and apparatus for surface-finishing.
  23. Wagener Thomas J. ; Siefering Kevin L. ; Kunkel Pamela A. ; Weygand James F. ; Thomes Gregory P., Rotatable and translatable spray nozzle.
  24. Morinishi Kenya,JPX ; Ohtani Masami,JPX ; Nishimura Joichi,JPX ; Morita Akihiko,JPX, Substrate cleaning apparatus and method.
  25. Jackson Robert S. ; Boberg Arne B., System and method for CO.sub.2 cleaning of data storage disks.
  26. Robert S. Jackson, System and method for carbon dioxide cleaning of data storage tape.
  27. Bran, Mario E., System for megasonic processing of an article.
  28. Bran,Mario E., Transducer assembly for megasonic processing of an article and apparatus utilizing the same.
  29. Patrin John C. ; Heitzinger John M., Treating substrates by producing and controlling a cryogenic aerosol.
  30. Bran, Mario E., Wafer cleaning.
  31. Bran, Mario E., Wafer cleaning.
  32. Bran Mario E., Wafer cleaning method.
  33. Mario E. Bran, Wafer cleaning method.
  34. Bran Mario E., Wafer cleaning system.
  35. Bran Mario E., Wafer cleaning system.
  36. Kanno Itaru,JPX ; Ohmori Toshiaki,JPX ; Tanaka Hiroshi,JPX ; Doi Nobuaki,JPX, Washing apparatus and washing method.
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