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Gas sensor having its heater and sensing layer on opposite sides of its substrate 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01C-007/00
출원번호 US-0097043 (1993-07-27)
발명자 / 주소
  • Chen I-Cherng (Hsinchu TWX) Tzeng Ming-Hann (Miaoli Hsien TWX) Tsai Ping-Ping (Hsinchu TWX) Liaw Chiu-Fong (Taipei TWX) Ku James C. H. (Taipei TWX)
출원인 / 주소
  • Industrial Technology Research Institute (Hsinchu TWX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 0

초록

A gas sensor that has its heater and sensing layer on opposite sides of the substrate. The gas sensor includes a buffer layer separating the gas-sensing layer from the substrate to improve mechanical strength and electrical properties. The heater is preferably formed of nickel paste and is provided

대표청구항

A gas sensor comprising: a substrate having two sides; a buffer layer coated on a first of said two sides of the substrate; at least one gas sensing layer arranged on said buffer layer; two spaced electrodes arranged on said gas sensing layer; a catalytic layer coated on said gas sensing layer and e

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Dimeo, Jr., Frank; Chen, Philip S. H.; Neuner, Jeffrey W.; Welch, James; Stawasz, Michele; Baum, Thomas H.; King, Mackenzie E.; Chen, Ing-Shin; Roeder, Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
  2. Dimeo, Jr.,Frank; Chen,Philip S. H.; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James; Stawacz,Michele; Baum,Thomas H.; King,Mackenzie E.; Chen,Ing Shin; Roeder,Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
  3. Dimeo, Jr.,Frank; Chen,Philip S. H.; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James; Stawasz,Michele; Baum,Thomas H.; King,Mackenzie E.; Chen,Ing Shin; Roeder,Jeffrey F., Apparatus and process for sensing fluoro species in semiconductor processing systems.
  4. Gu, Yuandong; Cole, Barrett E.; Higashi, Robert E., Gas sensor.
  5. Vigna Benedetto,ITX ; Ferrari Paolo,ITX ; Mastromatteo Ubaldo,ITX, Integrated semiconductor device comprising a chemoresistive gas microsensor and manufacturing process thereof.
  6. Vigna Benedetto,ITX ; Ferrari Paolo,ITX ; Mastromatteo Ubaldo,ITX, Integrated semiconductor device comprising a chemoresistive gas microsensor and manufacturing process thereof.
  7. Dimeo, Jr.,Frank; Chen,Philip S. H.; Chen,Ing Shin; Neuner,Jeffrey W.; Welch,James, Nickel-coated free-standing silicon carbide structure for sensing fluoro or halogen species in semiconductor processing systems, and processes of making and using same.
  8. Kaneko Masaya,JPX, Pyro-sensor and pyro-control circuit.
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