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Crystal growth method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-021/265
출원번호 US-0998765 (1992-12-30)
우선권정보 JP-0262161 (1989-10-09)
발명자 / 주소
  • Yonehara Takao (Atsugi JPX)
출원인 / 주소
  • Canon Kabushiki Kaisha (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 32  인용 특허 : 0

초록 ▼

A crystal growth method for applying a crystallization treatment onto an amorphous film which includes injecting ions of the constituent material of the film into the film applied with the crystallization treatment provided with a mask to form a first region and a second region made amorphous by the

대표청구항 ▼

A method for producing film having large size crystal grains with a narrow grain size distribution, said method comprising the steps of: providing an amorphous film of a crystallizable material on a surface of a substrate; converting said amorphous film to a polycrystalline film by applying heat at

이 특허를 인용한 특허 (32)

  1. Sakaguchi Kiyofumi,JPX ; Yonehara Takao,JPX, Fabrication method for semiconductor substrate.
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  2. Hyeon-cheol Kim KR; Heon-jong Shin KR, Manufacturing of gate electrodes having silicon of different grain sizes and different surface roughness.
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  3. Makita Naoki,JPX ; Miyamoto Tadayoshi,JPX, Method for fabricating a semiconductor device.
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  4. Yu Bin, Method for forming SOI film by laser annealing.
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  5. Hiroki Masamitsu,JPX ; Takemura Yasuhiko,JPX ; Yamamoto Mutsuo,JPX ; Yamaguchi Naoaki,JPX ; Teramoto Satoshi,JPX, Method for manufacturing thin-film transistors.
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  6. Zhang Hongyong,JPX ; Takayama Toru,JPX, Method for producing a semiconductor device including doping with a catalyst that is a group IV element.
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  7. Sato Nobuhiko,JPX ; Yonehara Takao,JPX ; Sakaguchi Kiyofumi,JPX, Method for producing semiconductor substrate.
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  8. Tolis Voutsas, Method of forming polycrystalline semiconductor film from amorphous deposit by modulating crystallization with a combination of pre-annealing and ion implantation.
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  9. Batra Shubneesh ; Manning Monte ; Banerjee Sanjay ; Damiano ; Jr. John, Method of forming thin film transistors.
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  10. Noguchi Takashi (Kanagawa JPX), Method of forming thin-film single crystal for semiconductor.
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  11. Hiroki, Masamitsu; Takemura, Yasuhiko; Yamamoto, Mutsuo; Yamaguchi, Naoaki; Teramoto, Satoshi, Method of manufacturing an active matrix type device.
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  12. Gu,Shuo; Cleeves,James M., Method of uniform seeding to control grain and defect density of crystallized silicon for use in sub-micron thin film transistors.
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  13. Gu,Shuo, Method to form large grain size polysilicon films by nuclei-induced solid phase crystallization.
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  14. Yamagata Kenji,JPX ; Yonehara Takao,JPX ; Sato Nobuhiko,JPX ; Sakaguchi Kiyofumi,JPX, Process for producing semiconductor substrate.
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  15. Sakaguchi,Kiyofumi; Yonehara,Takao, Process for production of semiconductor substrate.
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  16. Yu, Bin, SOI film formed by laser annealing.
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  17. Sato Nobuhiko,JPX ; Yonehara Takao,JPX ; Sakaguchi Kiyofumi,JPX, Semiconductor article with porous structure.
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  18. Takashi Noguchi JP, Semiconductor device.
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  19. Shunpei Yamazaki JP; Jun Koyama JP; Takeshi Fukunaga JP, Semiconductor device and method for producing it.
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  20. Yamazaki, Shunpei; Koyama, Jun; Fukunaga, Takeshi, Semiconductor device and method of manufacturing the same.
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  21. Yamazaki, Shunpei; Koyama, Jun; Fukunaga, Takeshi, Semiconductor device and method of manufacturing the same.
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  22. Uochi Hideki,JPX, Semiconductor device and process for fabricating the same.
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  23. Uochi Hideki,JPX, Semiconductor device and process for fabricating the same.
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  24. Hideki Uochi JP, Semiconductor device comprising thin film transistors having a passivation film formed thereon.
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  25. Zhang, Hongyong; Takayama, Toru, Semiconductor device having channel formation region comprising silicon and containing a group IV element.
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  26. Sato Nobuhiko,JPX ; Yonehara Takao,JPX, Semiconductor substrate and process for production thereof.
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  27. Batra Shubneesh ; Manning Monte ; Banerjee Sanjay ; Damiano ; Jr. John, Thin film transistor and method of forming thin film transistors.
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  28. Batra Shubneesh ; Manning Monte ; Banerjee Sanjay ; Damiano ; Jr. John, Thin film transistors.
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  29. Batra Shubneesh ; Manning Monte ; Banerjee Sanjay ; Damiano ; Jr. John, Thin film transistors and method of forming thin film transistors.
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  30. Shubneesh Batra ; Monte Manning ; Sanjay Banerjee ; John Damiano, Jr., Thin film transistors and method of forming thin film transistors.
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  31. Ohnuma Hideto,JPX ; Yamazaki Shunpei,JPX, Thin-film transistor and semiconductor device using thin-film transistors.
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  32. Ohnuma, Hideto; Yamazaki, Shunpei, Thin-film transistor and semiconductor device using thin-film transistors.
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